无锡好用的减薄用清洗剂私人定做

时间:2024年04月05日 来源:

    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。苏州高质量的减薄用清洗剂的公司。无锡好用的减薄用清洗剂私人定做

无锡好用的减薄用清洗剂私人定做,减薄用清洗剂

    并控制磁转子12和喷头11每间隔20s旋转10s,也就是说,控制磁转子旋转10s,控制磁转子停止旋转后,控制喷头喷涂抛光液10s,停止喷涂抛光液10s后,控制磁转子旋转10s,以此类推。本发明实施例中,控制部件在脉冲工作模式下,实现减薄和抛光两种工艺交替作用,使得减薄和抛光一体化完成,整个过程稳定,速度快,控制性好,重复度高,无粉尘污染,衬底减薄终厚度达到20μm,抛光面ra<2nm。还需要说明的是,本发明实施例中,在减薄的过程中,可以不断更换磁转子12,如磁转子12工作1小时后,将磁转子12更换为新的磁转子,以使磁转子与待加工表面贴合紧密,避免了传统减薄工艺中由于转子形变误差造成的加工精度失真。此外,本发明实施例中,在完成抛光和减薄后,可以采用直链烷基苯磺酸盐溶剂对待加工部件20进行清洗,用di水冲洗干净,40℃的氮气吹干。之后,将清洗后的待加工部件20和托盘10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min,使得待加工部件20和托盘10自动分离,取出待加工部件20后清洗干净即可。本发明实施例还提供了一种抛光减薄方法,如图5所示,包括:s101:将待加工部件固定在托盘上,待加工部件包括inp基晶圆;可选地。绍兴什么是减薄用清洗剂主要作用减薄清洗剂,采用科技,为您带来好的清洁效果。

无锡好用的减薄用清洗剂私人定做,减薄用清洗剂

    较佳的,所述冲洗区包括冲洗区、第二冲洗区和第三冲洗区,所述第二冲洗区设置于所述冲洗区和所述第三冲洗区之间,所述冲洗区设置于所述第二冲洗区和所述转换区之间,所述第三冲洗区设置于所述第二冲洗区和所述蚀刻区之间。较佳的,所述冲洗区设置有辅助厚度测量仪。较佳的,所述第三冲洗区设置有第二辅助厚度测量仪。较佳的,所述转换区设置为可升降的折叠式结构。较佳的,所述转换区设置有装卸臂。与现有技术比较本发明的有益效果在于:1,本发明中所述玻璃减薄生产线采用喷淋减薄的方式对竖直容纳在玻璃加工治具中的玻璃进行减薄处理,可实现单次多片玻璃减薄,同时避免浸泡式减薄法中反应产物粘附在玻璃上造成不良品的问题;2,本发明中所述玻璃加工治具在减薄处理时进行往复移动使侧支撑件与玻璃之间接触点产生变化,从而避免所述侧支撑件与玻璃之间的接触点因所述侧支撑件的长期接触造成接触点无法被喷淋液喷淋而产生的不良次品问题;3,本发明通过所述侧支撑件的固定结构,可实现所述侧支撑件的位置调节,从而使玻璃加工治具适用于不同尺寸的玻璃并可将不同尺寸的玻璃同时设置于玻璃加工治具上同时进行减薄处理。附图说明图1为所述玻璃减薄设备的结构示意图。

    降低待加工部件20如inp基晶圆的机械加工损伤。由于本发明实施例中采用光刻胶对托盘和待加工部件进行了固定,因此,对待加工部件的待加工表面进行抛光和减薄之后,还包括:对待加工部件进行清洗;采用特定溶液对光刻胶进行腐蚀,以将待加工部件与托盘分离。具体地,在完成抛光和减薄后,可以采用直链烷基苯磺酸盐溶剂对待加工部件20进行清洗,用di水冲洗干净,40℃的氮气吹干。之后,将清洗后的待加工部件20和托盘10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min,使得待加工部件20和托盘10自动分离,取出待加工部件20后清洗干净即可。本发明实施例提供的方法,还包括:在磁转子运行一段时间后,更换磁转子。如磁转子12工作1小时后,可以将磁转子12更换为新的磁转子,以使磁转子与待加工表面贴合紧密,避免了传统减薄工艺中由于转子形变误差造成的加工精度失真。本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言,由于其与实施例公开的方法相对应,所以描述的比较简单,相关之处参见方法部分说明即可。对所公开的实施例的上述说明。苏州好的减薄用清洗剂的公司。

无锡好用的减薄用清洗剂私人定做,减薄用清洗剂

    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图;图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图;图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图;图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想,为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置,用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄,如图1所示,包括托盘10、喷头11和磁转子12,当然,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等,托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中,托盘10,可选为石英托盘,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,以对待加工表面进行抛光。哪家减薄用清洗剂的是口碑推荐?绍兴什么是减薄用清洗剂主要作用

专业减薄用清洗剂,为您解决生产中的涂层难题。无锡好用的减薄用清洗剂私人定做

    月)主营产品:金属清洗剂电气设带电清洗剂除锈剂除垢剂¥成都市凯亚环保科技有限公司所在地:四川成都在线询价紫铜表面怎样处理不变色铜制品表面如何防止氧化净彻铜清洗剂分类铜清洗剂型号JC-030品牌净彻香型无味PH值7-9保质期24主营产品:强力油污清洗剂杀菌灭藻剂除垢除锈剂管道预膜剂¥东莞市净彻清洗剂科技有限公司所在地:广东东莞在线询价洋白铜清洗剂铜水基清洗剂铜合金清洗剂工业清洗剂类别中性清洗液型号HY-2260主要用途冲压油、模具油污、粉尘、手汗、有机物等污垢的清洗执行标准国标CAS无主营产品:等离子抛光机等离子抛光盐混凝土脱模剂建筑模板脱模剂¥深圳华亿科技有限公司所在地:广东深圳在线询价供应汉高紫铜清洗剂除油剂P3-T7221品牌德国汉高系列清洗剂分类油污清洗剂型号p3系列主营产品:其他加工助剂工业用清洗剂防腐涂料其他表面活性剂上海帛频实业有限公司所在地:上海闵行区在线询价贻顺103黄铜化学抛光剂金属表面抛光环保洗铜水是否进口否产地广州品牌贻顺产品名称黄铜化学抛光剂产品规格25kg/桶货号Q/主营产品:金属工艺液工业用清洗剂金属清洗剂碳¥广州市贻顺化工有限公司所在地:广东广州在线询价供应铜清洗剂安全清洗量大优惠渗透力强产品名。无锡好用的减薄用清洗剂私人定做

信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责