浙江超高压微射流均质机

石墨烯是已知的**的材料之一，自2004年曼彻斯特大学的AndreGeim和KonstantinNovoselov[1]发现它以来，由于其独特的特性，引起了人们的极大兴趣，在物理、化学、材料、生物医学和环境方面进行了***的研究。石墨烯商业化的新产品也不断出现，多国**把石墨烯材料立为国家重点发展对象，关于石墨烯材料的投资也越来越多。开发一种简便的方法来生产高质量、高产量的石墨烯对其商业化至关重要。生产石墨烯主要有两种技术：自上而下和自下而上。一般来说，氧化还原、化学气相沉积、外延生长和机械剥离可用于生产石墨烯。近年来，液相剥离法作为一种从上到下制备高质量石墨烯的新方法受到了广泛的关注。迈克孚微射流均质机可以进行石墨烯的液相剥离。浙江超高压微射流均质机

，例如陈琼玲等人使用高压微射流法制备了白藜芦醇纳米脂质体，其比较好制备工艺为卵磷脂/VE=10∶1，卵磷脂/白藜芦醇=11.6∶1，卵磷脂/胆固醇=10.5∶1，微射流压力18366PSI，循环次数3次。在此条件下制得白藜芦醇纳米脂质体的包封率为87.74%±1.01%，平均粒径为78.31nm±1.37nm，Zeta电位为－55.5mV。该方法制得的白藜芦醇纳米脂质体包封率高、粒径小、分布范围窄，且体系稳定（陈琼玲，刘红芝，刘丽，王强－高压微射流法制备白藜芦醇纳米脂质体［J］．JournalofNuclearAgriculturalSciences，2015，29(5):0916～0924）。迈克孚微射流™高压均质机是利用百微米左右孔道形成两束超音速射流相互对撞进行极强烈的剪切，空穴作用，从而实现微粒化，具有对活性物损伤小、颗粒均匀度高、批次放大稳定性好等优点，高压微射流也是目前制药行业用于制备注射脂质体的主要设备。浙江生产型微射流均质机大小迈克孚微射流均质机成熟稳定的液压增压动力模式保障稳定的药物生产。

化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术具有独特的化学和机械相结合的效应，是在机械抛光的基础上，根据所要抛光的表面，加入相应的化学试剂，从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。化学机械抛光技术是迄今***可以提供整体平面化的表面精加工技术，它是从原子水平上进行材料去除，从而获得超光滑和**损伤表面，该技术广泛应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域。同时，CMP技术也是超精密设备向精细化、集成化和微型化发展的产物。

目前，已有相关利用高压微射流进行碳纳米管分散的研究。例如，Luo等[3][4]开发了结合高压微射流与超声波方法大规模生产碳纳米管分散体的技术，研究了这两种不同工艺处理的swcnts分散体的加工-结构关系，并在同一框架内方便地进行了比较。利用超离心机方法，同时拉曼散射、光致发光光谱进行表观特征分析，证明了微射流处理提高了swcnts束的分散效率。微射流高压均质机利用成熟稳定的液压技术，在柱塞泵的作用下将液体物料增压，凭借精确压力调节使物料压力增压到20Mpa至210Mpa之间设定的压力值。被增压的物料，流向具有固定几何形状的金刚石（或陶瓷）制作的微通道并产生高速微射流，高速微射流物料在特定几何通道下产生物理剪切、高能对撞、空穴效应等物理作用力，从而使得物料达到均匀分散效果。迈克孚微射流均质机制备NMN纳米脂质体和纳米乳。

CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降，导致抛光过程中玻璃表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此如何配制匀分散且悬浮稳定的纳米磨料抛光液在CMP应用中十分重要的研究课题。迈克孚微射流™高压均质机是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备。迈克孚供应的微射流高压均质机利用成熟稳定的液压增压技术，在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压，凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料，射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流，超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力，从而实现纳米材料的分散。近日，有客户在迈克孚利用微射流均质机进行了CMP抛光液的分迈克孚微射流均质机在细胞破碎的领域中，更高的细胞破碎率 更少的破碎次数要求。无锡纳米分散微射流均质机采购

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抛光液是化学机械抛光技术的关键之一，其性能直接影响着被抛光工件的表面质量。从全球范围来看，根据Techcet预测数据，全球抛光液市场规模将从2019年的12亿美元增至2024年的18亿美元，复合年增长率为8.45%。从国内市场来看，根据QYResearch预测数据，国内抛光液市场规模到2025年或超10亿美元。届时国内市场占全球市场规模将超过50%，远高于当前约16%的份额。受益于晶圆厂扩建潮、技术迭代以及国产替代***提速驱动，CMP抛光液市场国内增速远超国际。全球CMP抛光液市场主要被美国和日本厂商垄断，占据全球CMP抛光液市场近八成市场份额。因此抛光液的制备技术在我国有着广阔的发展前景。浙江超高压微射流均质机

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