绍兴美国微射流均质机性能

近年来，随着3C产品和新能源动力汽车的发展，锂离子电池凭借比能量高、循环寿命长、放电电压高、无记忆效应以及贮存寿命长等优点，迅速成为该市场的主要电池类型。但是新能源汽车对更高续航里程的要求，迫切需要更高能量密度的锂离子电池系统。目前主流的思路是从改进和探索新型的锂离子电池电极材料出发来提高电池系统的能量密度。而作为锂离子电池主要储锂部分，负极材料的比容量对锂离子电池的能量密度具有至关重要的作用。现阶段工业上大都采用石墨作为锂离子电池的负极材料，但因其较低的理论比容`量（372mAhg−1）限制了能量密度的进一步提升［1］。在众多负极材料中，硅材料由于具有较高的理论比容量（比较高4200mAhg−1），相比于石墨具有较高的嵌锂电位可以避免生成锂枝晶、适中的工作电压（0.4Vvs.Li/Li+）、含量丰富以及环境友好等特性，被公认为是**有前途的负极材料［2］。但是，硅材料在嵌锂过程中巨大的体积膨胀诱导极大的内应力产生，内应力的释放会导致硅颗粒破裂甚至粉化，破碎的硅颗粒与电极失去电接触，导致电池容量衰减［3］。另外，硅的本征电导率较差，限制了硅负极的倍率性能［4］。迈克孚微射流均质机制备神经酰胺纳米脂质体。绍兴美国微射流均质机性能

991年，日本NEC公司的电子显微镜专家S.Iijima在观察石墨电弧设备中产生的富勒烯时，在阴极表面沉积物中意外地发现了具有管状结构的纳米碳[1]，即现在**受推崇的碳纳米管（CNTs）。从结构上看碳纳米管是由一层或者多层石墨层片按照一定螺旋角卷曲而成的、直径为纳米量级的圆柱壳体。碳纳米管由于典型的一维管状结构，性能稳定，轴向上的性能极为优异的力学性质和导电性。正是由于这种高导电性，高结构稳定性等优势，使其在锂离子电极材料的应用不仅可以直接作为负极材料发挥结构稳定等优势，也可以作为导电添加剂提高正极材料的性能，**提高了电极材料及锂离子电池的性能[2]。绍兴实验型微射流均质机种类利用迈克孚微射流均质机分撒石墨烯涂料，具有很好的导热效果。

微射流高压均质机利用成熟稳定的液压技术，在柱塞泵的作用下将液体物料增压，凭借精确压力调节使物料压力增压到20Mpa至210Mpa之间设定的压力值。被增压的物料，流向具有固定几何形状的金刚石（或陶瓷）制作的微通道并产生高速微射流，高速微射流物料在特定几何通道下产生物理剪切、高能对撞、空穴效应等物理作用力，从而使得物料达到均匀分散效果。石墨烯微射流制备技术是一种特殊的方法，通过碰撞、空穴作用和剪切力来提高剥离效率，并且微射流技术以恒定的压力和独特设计的交互容腔可以确保物料的每一毫升体积都得到同样的均质，所以重现性非常好。微射流技术有成熟的生产设备，且从小试到生产都是用相同的微通道，只是将通道数并列增加，因此用户在后续产能放大时较为容易，节省研发时间及费用。

抛光液是化学机械抛光技术的关键之一，其性能直接影响着被抛光工件的表面质量。从全球范围来看，根据Techcet预测数据，全球抛光液市场规模将从2019年的12亿美元增至2024年的18亿美元，复合年增长率为8.45%。从国内市场来看，根据QYResearch预测数据，国内抛光液市场规模到2025年或超10亿美元。届时国内市场占全球市场规模将超过50%，远高于当前约16%的份额。受益于晶圆厂扩建潮、技术迭代以及国产替代***提速驱动，CMP抛光液市场国内增速远超国际。全球CMP抛光液市场主要被美国和日本厂商垄断，占据全球CMP抛光液市场近八成市场份额。因此抛光液的制备技术在我国有着广阔的发展前景。迈克孚微射流均质机可以剥离氮化硼等二维材料。

然而，纳米油墨制备过程中存在重要的工艺问题，就是纳米材料的分散问题。尤其是水性纳米油墨，由于碳粉或其他颜料分子的疏水作用，纳米级材料在水系溶剂很快团聚成微米颗粒，极大的影响了油墨的质量。迈克孚微射流™高压均质机是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备。迈克孚供应的微射流高压均质机利用成熟稳定的液压增压技术，在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压，凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料，射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流，超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力，从而实现纳米材料的分散。微射流技术以恒定的压力和独特设计的交互容腔可以确保物料的每一毫升体积都得到同样的均质，所以重现性非常好。微射流技术有成熟的生产设备，且从小试到生产都是用相同的微通道，只是将通道数并列增加，因此用户在后续产能放大时较为容易，节省研发时间及费用。近日，有客户在迈克孚利用微射流均质机进行了油墨从微米级到纳米级的分散测试，取得了满意的效果，处理完成后，粒径分布D50保持在100nm以下。迈克孚微射流均质机具有很好的工业放大的效果。浙江美国微射流均质机应用

利用迈克孚微射流均质机具备纳米级分散能力，在精细化工领域具有广阔的应用前景。绍兴美国微射流均质机性能

化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术具有独特的化学和机械相结合的效应，是在机械抛光的基础上，根据所要抛光的表面，加入相应的化学试剂，从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。化学机械抛光技术是迄今***可以提供整体平面化的表面精加工技术，它是从原子水平上进行材料去除，从而获得超光滑和**损伤表面，该技术广泛应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域。同时，CMP技术也是超精密设备向精细化、集成化和微型化发展的产物。绍兴美国微射流均质机性能

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