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产品情报导热胶UV延迟固化低透湿度粘着剂【PhotolecE】UV照射后，有延迟固化型和立即固化型两种型号。低排气，低透湿性。产品情报导热胶UV（B阶段）+湿气固化型粘接剂【PhotolecB】简易加工（弯曲的表面，细线），遮光区可固化，对不同材料具高附着力，应力緩和性能（固化后的灵活性，厚度保持，抗冲击性），可重工。产品情报泡棉胶带防水・衝撃吸収用途機能泡棉胶带【#5200系列】泡棉和胶粘剂组成的具有出色的缓解应力性能的胶带。高抗冲击性，高追随性（防水，防尘），高粘合可靠性。产品情报离型膜热压保护用離型薄膜【低脱气离型膜】具低脱气性Outgas和优异的嵌入性能，可耐190℃的高温热压工艺的離型薄膜。sekisui积水胶带，5760E型号齐全！广州灭菌积水胶带咨询问价

UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带，UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。福州耐高温积水胶带厂家供应sekisui积水胶带，WL03型号齐全！

除了金属箔之外，我们还提供铜箔、不织布和PET薄膜，并在纳米级涂上金属薄膜以实现多功能化（AI、Cu、Ag、Ti、SUS等）。除了填料的选择之外，我们独特的分散性控制技术还实现了高功能导电性。翻转测试比较屏蔽性能用途可适用于电子部品的静电/电磁波干扰。1去除LCD周边的静电2电子部品的接电/屏蔽用途3金属屏蔽罩替代用途优异的导电性、粘着力、轻薄，适用于薄型手机的接电和屏蔽罩系列Series7800YCSBN7800YCSB7800YCWB品名Name7830YCSBN7830YCSB7848YCSB7865YCSB7848YCWB胶带厚度Thickness30μm30μm48μm65μm48μm基材厚度Basethickness18μm12μm18μm35μm12μm构造Structure用途Application接电GND●●●●●屏蔽罩EMIShielding●●●●防静电ESD●●●●●+α機能+Function耐弯折Bending●●薄型化TobeThin●●放热HeatDissipation●●●●●Adhisive180°JISZ0237SUS(N/25mm)10.11419.123.013.4Retention85℃*1kg*(mm)00000XYElectricalResistance(mΩ/sq)ZTapeSize：25×25mm2Load：500gCu(mΩ/(25mm□))44887特点可以设计与使用环境相对应的粘着剂。通过在分子水平上控制粘合剂，可以添加各种特性，例如高可靠性设计和耐热设计。

    什么是SELFA系列SELFA是同时具备高接着性与易剥离的两种特性的UV剥离胶带。UV照射后胶带与被着体间产生气体，可以在零受力的情况下非常轻易地撕掉胶带，即使是超薄研磨的晶圆也不会受到任何损伤。积水化学拥有高耐热性的单面HS系列，高耐热的双面临时键合材料HW系列，以及高耐药液性的MP系列等的产品系列，我们可以从中选择适合您应用场景的型号进行提案。耐热SELFA系列SELFAHS耐热SELFA系列SELFAHWUV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MPSELFA系列的特征凭借高耐热性及特殊剥离技术来实现崭新的半导体工艺适用无铅回流焊等新的工艺适用于超薄器件宽泛的工艺窗口通过气体的产生实现无损伤的剥离即使在高温后也能够实现无残胶一般UV胶带SELFA一般UV胶带SELFA耐热性×（150度以下）220℃@2hr+Reflow残胶×无残胶单面耐热SELFAHS系列在诸如回流焊等封装的热制程中保护器件特征优良的耐热性，耐药性同时兼备强粘着+低残胶两种性能使用例产品规格品名类型高耐热剥离方法基材种类器件侧粘着种类支持剂侧粘着种类UV波长(nm)UV照射量(mj/cm2)用途案例HS单面○剥离耐热膜UV固化粘着剂-4053000reflow双面耐热SELFAHW系列实现干膜式的干法临时键合工艺。

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    积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览光学薄膜用保护膜6700，/6800，/6900系列首页胶带光学薄膜用保护膜6700，/6800，/6900系列扩散板，增光片等各种LCD用光学薄膜的表面保护膜。生产，加工，运输等所有环节中保护光学薄膜。特点采用残胶等被粘物污染少的双层共挤压生产方式。通过基材和粘合剂的不同变化来对应凹凸面，磨沙面等多种多样的光学薄膜的表面形状。在无尘室生产。一般性保护膜的制作过程本公司双层共挤压过程1由于基材与胶层的粘接牢固，材料上几乎没有残胶。2它是一种无溶剂的制造方法，因此是一种对环境友善的生产方法。用途增光板等光学薄膜的表面保护。特性强粘着类型（PP系薄膜）一般物性:6700系列品名6748C6754A672NZ675KA色透明透明透明透明标准厚度μm杨氏模量(MD)Mpa0抗拉强度(MD)N/cm20202320拉伸伸长率(MD)%0粘着力(23℃。 积水（Sekisui）5230PSB提供优异的抗斥性和强大的粘附力，以粘合到物体的曲线表面。四川灭菌积水胶带哪里买

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