广东超高速灰度光刻系统

纳米纹理在纳米技术中起着越来越重要的作用。近期的研究表明，可以通过空间调节其纳米级像素的高度来进一步增强其功能。但是，实现该概念非常具有挑战性，因为它需要对纳米像素进行“灰度”打印，其中，纳米像素高度的精度需要控制在几纳米之内。只有少数几种方法（例如，灰度光刻或扫描束光刻）可以满足这种严格的要求，但通常其成本较高，并且它们中的大多数需要化学开发过程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重构灰度纳米像素打印技术受到高度追捧。关于双光子聚合（2PP）和双光子灰度光刻（2GL ®）的问题，咨询请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。广东超高速灰度光刻系统

在双光子灰度光刻工艺中，激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行，以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称，QuantumX在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状，具有可变的特征高度。离散和精确的步骤，以及本质上为准连续的形貌，可以在一个步骤中完成打印，而不需要多步光刻或多块掩模制造。QuantumX支持多种类型衬底，包括透明和不透明的衬底，可用于比较大尺寸为6英寸的晶圆。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻机，允许高纵横比，支持高结构，无需掩模、旋涂和预烘烤或后烘烤。黑龙江双光子灰度光刻3D微纳加工灰度光刻技术具有高精度、高效率的特点。

Nanoscribe的全球头一次创造工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX，适用于制造微光学衍射以及折射元件。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。

超高速灰度光刻技术是一项带领科技发展的重大突破，为我们带来了无限可能。这项技术的出现，将彻底改变我们对光刻的认知，为各行各业带来了巨大的创新机遇。超高速灰度光刻技术主要是利用高能激光束对材料进行精确的刻蚀，从而实现微米级甚至纳米级的精细加工。相比传统的光刻技术，超高速灰度光刻技术具有更高的加工速度和更精确的刻蚀效果。这意味着我们可以在更短的时间内完成更复杂的加工任务，提高了生产效率。超高速灰度光刻技术在电子、光电子、生物医药等领域具有广泛的应用前景。在电子领域，它可以用于制造更小、更快的芯片和电路板，推动电子产品的迭代升级。在光电子领域，它可以用于制造高精度的光学元件，提高光学设备的性能。在生物医药领域，它可以用于制造微型生物芯片和生物传感器，实现更精确的医学诊断。Quantum X是全球头一台灰度光刻激光直写系统。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及非常广的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明灰度光刻技术的精度受到灰度值的影响。黑龙江双光子灰度光刻3D微纳加工

该技术还可以与双光子聚合技术结合，实现高速打印高设计自由度和超高精度的特点,进一步扩展了其应用范围。广东超高速灰度光刻系统

由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。世界上头一台双光子灰度光刻（2GL®）系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。广东超高速灰度光刻系统