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基于双光子聚合（2PP）原理的双光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技术，具备体素动态控制能力。在扫描激光焦点横跨扫描平面时，调制曝光剂量会改变光敏树脂内的体素大小，从而实现对聚合体素尺寸的精细可控变化。这是激光功率调制和高速振镜扫描与精确的横向载物台运动同步的结果。为此，将灰度图像转换为曝光级别的空间变化，从而在一个平面上打印不同的体素高度。 2GL有什么优势？ 双光子灰度光刻 技术（2GL®）使用激光束调制和高速振镜的高频同步进行单体素调节，从而实现光学质量表面结构。通过高精度定位单元和自校准程序，可在拼接相邻打印区域时以出色准确性进行打印，以制造大型结构。2GL动态调整打印场边界处的激光剂量，以补偿光敏聚合物的化学诱导收缩和定位缺陷。通过这种功能组合，可以在几平方厘米的区域内打印出真正的无缝结构，消除所有拼接痕迹。微纳光学器件制造，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。四川微纳米Nanoscribe上海

售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务湖南高精度Nanoscribe生物医学德国Nanoscribe公司的双光子聚合技术的3D打印设备为亚微尺度和纳尺度结构制造提供了有效的解决方案。

Nanoscribe Quantum X align作为前列的3D打印系统具备了A2PL®对准双光子光刻技术，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。全新灰度光刻3D打印技术3D printing by 2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度，适用于微光学制造和光子封装领域。3D printing by 2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。

3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，可以实现具有特定光子，机械，生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。 高效能能源器件，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。

Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX，一种基于场景图概念的软件工具，可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织，用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征，例如芯片边缘和光纤表面。使用Quantum X align系统的共焦单元或光纤照明单元，可以识别这些特定的基板标记，并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是Quantum X align系统的标配。更多有关3D微纳加工的咨询，欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。高精度Nanoscribe3D微纳加工

Nanoscribe的打印设备具有高度3D设计自由度的特点且具备人性化的操作系统。四川微纳米Nanoscribe上海

Nanoscribe称，Quantum X是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photon grayscale lithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。  四川微纳米Nanoscribe上海