西藏新型光稳定剂791

时间:2021年10月21日 来源:

光稳定剂770与大部分聚合物具有良好的相容性,与抗氧剂和紫外线吸收剂共用时具有协同作用,可用于聚烯烃材料(如PP、PE)、烯烃共聚物(如EVA和丙烯与橡胶的共聚物)、PS、PA、PU、软质PVC注意事项:避免阳光、潮湿、高温,避免接触含硫或卤族元素的稳定剂、阻燃剂或杀虫剂等,使用前需测试包装:25公斤纸箱,内衬塑料袋或按客户指定要求包装适用基材:ABS,PC,PP,PE,TPU,TPO,TPV,TPS,EPDM,应用领域:家电,土工布,遮阳网,弹性体,仿藤,塑胶跑道,塑编袋,集装袋,光稳定剂622 化学名称: 聚丁二酸(4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇)酯 。西藏新型光稳定剂791

    光稳定剂是高分子制品(例如塑料、橡胶、涂料、合成纤维)的一种添加剂,它能屏蔽或吸收紫外线的能量,猝灭单线态氧及将氢过氧化物分解成非活性物质等功能,使聚合物在光的辐射下,能排除或减缓光化学反应可能性,阻止或延迟光老化的过程,从而达到延长聚合物制品使用寿命的目的。下面我来为大家介绍一下我司其中一个产品:光稳定剂770。规格单位标准外观白色颗粒或粉末含量%≥98.5;LS770为低分子量受阻胺光稳定剂,适用于大部分聚合物,特别是在厚制品中光稳定效果良好。该产品特别适用于PP,TPO,苯乙烯聚合物(HIPS,SAN,ABS,ASA),聚酰胺,聚氨酯,聚缩醛,弹性体,胶黏剂及密封件等等。同时适用于薄制品如PP膜和胶带。●根据应用领域的不同,LS770的建议添加量一般为0.3-0.5%。须采用适当的试验来判定特定用途中所添加量是否合适。该产品与受阻胺光稳定剂(如,LS944,LS119)及紫外线吸收剂(如UV327)具有良好的协同效果。 湖北亚克力光稳定剂欢迎咨询光稳定剂791 可以提供聚合物很好的保护,免受紫外光的侵害。

光稳定剂770,又名光稳定剂ZX-70,分子式是C28H50N2O4,分子量,主要作为高效受阻胺类光稳定剂,适用于聚丙烯、聚乙烯、ABS树脂和聚氨酯等。中文名光稳定剂770英文名称HS-770,CAS号52829-07-9,中文别名:癸二酸双-2,2,6,6-四甲基哌啶醇酯;光稳定剂770主要用途:作为高效受阻胺类光稳定剂,适用于聚丙烯、聚乙烯、ABS树脂和聚氨酯等 光稳定剂770安全信息编辑光稳定剂77***术语,吸入有毒。刺激呼吸系统和皮肤。对眼睛有严重伤害。光稳定剂770安全术语不慎与眼睛接触后,请立即用大量清水冲洗并征求医生意见。戴护目镜或面具。若发生事故或感不适,立即就医(可能的话,出示其标签)。

光稳定剂770具有很好的光保护性能,因而在高聚物领域得到普遍的应用。优势性能:用一般的方法可将770加入聚合物中,770的热稳定性很好,并由于不吸收可见光谱,所以不会影响聚合物的颜色。770可连同紫外光吸收剂系列,如UV-P,UV-327,UV-531等一同使用,产生协同效应,为塑料提供良好的光稳定性。如想达到770的更大功效,需要充分的塑胶基本稳定,以防止热氧降解对塑料造成之损坏。含硫稳定剂如硫代双丙酸酯,含硫酚类抗氧剂会影响770的效果。如制成品需要极高的光稳定性,颜料的影响也很重要,建议先进行小试。用量:一般用量为0.3-0.5份(只供参考,实际应参照试验用量)光稳定剂770 应用领域: 家电,土工布,遮阳网,弹性体,仿藤,塑胶跑道,塑编袋,集装袋。

光稳定剂791化学组分:50%光稳定剂944+50%光稳定剂770;溶解性:溶于乙酸乙酯;[技术指标];外观:白色或浅黄色粉末颗粒;熔点℃>50;相对密度–1.2g/L;应用:本品是一种高分子量复配型受阻胺类光稳定剂,具有优良光稳定效能和优良的长效热稳定性,特别适用于PP,PP/EPDM和PP/PE/EPDM的混合物厚制品,PP和HDPE扁丝,提供良好的表面保护作用。使用建议:在不用着色或轻微着色制品中,或为了改善某种有机颜料的光牢度的情况下,建议与紫外线吸收剂(326/327/328/531)并用。光稳定剂791 是一种齐聚受阻胺光稳定剂的协效混合物。重庆耐高温光稳定剂3853

光稳定剂770 化学名称: 双(2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯。西藏新型光稳定剂791

   光稳定剂P58,CAS NO.:167078-06-0(3853)+9003-07-0(PP);产品类型:受阻胺光稳定剂;产品描述:化学名称:50%光稳定剂3853和50%聚丙烯;化学式:C27H53NO2;(C3H6)n;外观:白色颗粒;熔点:60-160℃;挥发分:≤0.5%;相对密度:0.92g/cm3;失重温度:273℃(5.0%)透光率:425nm:≥93.0%;450nm:≥95.0%灰分:≤0.1%特点及用途:含有50%高效受阻胺3853的载体型光稳定剂,与聚烯烃树脂有极好的相容性,具有耐迁移、低析出等特点,具有优异的对表面稳定性. 西藏新型光稳定剂791

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