MEMS纳米压印推荐型号
曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用,例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板,可以实现亚10nm的分辨率,但是模板不能弯折,无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触,实现结构在非平面基底上的压印复制,但是由于弹性模板的杨氏模量较低,所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状,结合传统的纳米压印技术和软压印技术,中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法,该模板包含刚性结构层和弹性基底层。(来自网络,侵权请联系我们进行删除,谢谢!)EVG®7200LA是大面积SmartNIL®UV紫外光纳米压印光刻系统。MEMS纳米压印推荐型号

纳米压印光刻(NIL)技术EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场lingxian供应商。EVG从19年前的研究方法中率先掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及ZUI近各种衍射光学元件的各种商业应用。其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®热压纳米压抑系统型号包含:EVG®510HEEVG®520HE详细的参数,请联系我们岱美有限公司。热压印纳米压印用途是什么SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。

UV-NIL/SmartNIL纳米压印系统EVGroup为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和蕞少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。这个系列的型号包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。
SmartNIL技术简介SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现无人能比的吞吐量,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本的技术,大批量替代光刻技术。

EVG510® HE 热压印系统
应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产
EVG510® HE 半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有热压印腔室,其真空和压印力可调,可用于热压印各种聚合物材料,可进行高深宽比压印,可用于高质量纳米微米图案的热转印工艺。
EVG510® HE 特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化热压印工艺
配合EVG专有的对准设备,可用于需要光学对准的压印
完全由软件控制的流程执行
主动式水冷系统提供安静快速均匀的冷却效果
可选配闭环冷却水供应 纳米压印技术在纳米科技领域具有广泛的应用前景,可以推动纳米科技的发展和应用。江苏纳米压印芯片堆叠应用
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第三代基材。MEMS纳米压印推荐型号
EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案纳米压印光刻的介绍:EVGroup是纳米压印光刻(NIL)的市场领仙设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系岱美,探讨纳米压印光刻的相关知识。岱美愿意与您共同进步。MEMS纳米压印推荐型号
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