晶片轮廓仪干涉测量应用

比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。获取反射光谱指南入射光角度的不同造成两种技术在成本，复杂度，和测量能力上的不同。由于椭偏仪的光从一个角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和强度，使得椭偏仪对超薄和复杂的薄膜堆有较强的测量能力。然而，偏振分析意味着需要昂贵的精密移动光学仪器。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及任何移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。从下面表格可以看出,光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的手选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。光谱反射率光谱椭圆偏振仪厚度测量范围1nm-1mm(非金属)-50nm(金属)*-(非金属)-50nm(金属)测量折射率的厚度要求>20nm(非金属)5nm-50nm(金属)>5nm(非金属)>。物镜是轮廓仪蕞和新的部件， 物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求。晶片轮廓仪干涉测量应用

1.3.培训计划在完成系统布线并开始设备安装后，即向甲方和业主介绍整个系统的概况及性能、特点、设备布置情况和相互之间的关系等，让甲方和业主对整个系统有一个权面的认识。在整个系统验收前后，安排有关人员在进行培训。1.4.培训形式公司指派技术人员向相关人员讲解系统的原理、功能、操作及维修保养要点；向受训学员提供和解释有关设计文件及图纸等资料，使学员对系统的各个方面都能熟练掌握；针对系统的具体操作一一指导，使相关人员掌握技术要领；对学员提出的问题进行详细解答；重庆轮廓仪试用LED光源通过多珍孔盘（MPD）和物镜聚焦到样品表面上，从而反射光。

NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例测量种类◼基板ASoldMask3D形貌、尺寸◼基板ASoldMask粗糙度◼基板A绿油区域3D形貌◼基板A绿油区域Pad粗糙度◼基板A绿油区域粗糙度◼基板A绿油区域pad宽度◼基板ATrace3D形貌和尺寸◼基板B背面PadNanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置，一键式操作，自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统，数据可导入SPC▪具备异常报警，急停等功能，报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产能:45s/点（移动+聚焦+测量）（扫描范围50um）➢具备Globalalignment&Unitalignment➢自动聚焦范围：±0.3mm➢XY运动速度蕞快。

轮廓仪在集成电路的应用封装Bump测量视场：72*96（um）物镜：干涉50X检测位置：样品局部面减薄表面粗糙度分析封装：300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D显示；线粗糙度分析：Ra,Ry，Rz，…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构分析、工艺控制参数分析激光隐形切割工艺控制世界为一的能够实现激光槽宽度、深度自动识别和数据自动生成，大达地缩短了激光槽工艺在线检测的时间，避免人工操作带来的一致性，可靠性问题欢迎咨询。粗糙度仪的功能是测量零件表面的磨加工/精车加工工序的表面加工质量。

关于三坐标测量轮廓度及粗糙度三坐标测量机是不能测量粗糙度的，至于测量零件的表面轮廓，要视三坐标的测量精度及零件表面轮廓度的要求了，如果你的三坐标测量机精度比较高，但零件轮廓度要求不可，是可以用三坐标来代替的。一般三坐标精度都在2-3um左右，而轮廓仪都在2um以内，还有就是三坐标可以测量大尺寸零件的轮廓，因为它有龙门式三坐标和关节臂三坐标，而轮廓仪主要用来测量一些小的精密零件轮廓尺寸，加上粗糙度模块也可以测量粗糙度。NanoX-8000隔振系统：集成气浮隔振 + 大理石基石。重庆研究所轮廓仪

支持连接MES系统，数据可导入SPC。晶片轮廓仪干涉测量应用

轮廓仪对所测样品的尺寸有何要求？答：轮廓仪对载物台xy行程为140*110mm（可扩展），Z向测量范围蕞大可达10mm，但由于白光干涉仪单次测量区域比较小（以10X镜头为例，在1mm左右），因而在测量大尺寸的样品时，全检的方式需要进行拼接测量，检测效率会比较低，建议寻找样品表面的特征位置或抽取若干区域进行抽点检测，以单点或多点反映整个面的粗糙度参数；4.测量的蕞小尺寸是否可以达到12mm，或者能够测到更小的尺寸？如果需要了解更多，还请访问岱美仪器的官网。晶片轮廓仪干涉测量应用

岱美仪器技术服务（上海）有限公司成立于2002-02-07，同时启动了以EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi为主的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪产业布局。业务涵盖了半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪等诸多领域，尤其半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪中具有强劲优势，完成了一大批具特色和时代特征的仪器仪表项目；同时在设计原创、科技创新、标准规范等方面推动行业发展。我们在发展业务的同时，进一步推动了品牌价值完善。随着业务能力的增长，以及品牌价值的提升，也逐渐形成仪器仪表综合一体化能力。值得一提的是，岱美中国致力于为用户带去更为定向、专业的仪器仪表一体化解决方案，在有效降低用户成本的同时，更能凭借科学的技术让用户极大限度地挖掘EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi的应用潜能。