晶圆片光刻机技术原理
EVG101光刻胶处理系统的技术数据:可用模块:旋涂/OmniSpray®/开发分配选项:各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000cP的粘度;液体底漆/预湿/洗盘;去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);恒压分配系统/注射器分配系统。智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)用于过程和机器控制的集成分析功能并行任务/排队任务处理功能,提高效率设备和过程性能跟宗功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟宗晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米在全球范围内,我们为许多用户提供了量产型的光刻机系统,并得到了他们的无数好评。晶圆片光刻机技术原理

EVG®150特征:晶圆尺寸可达300毫米多达6个过程模块可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat™,显影,烘烤/冷却/蒸气/上等EV集团专有的OmniSpray®超声波雾化技术提供了****的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层可选的NanoSpray™模块实现了300微米深图案的保形涂层,长宽比*高为1:10,垂直侧壁广范的支持材料烘烤模块温度高达250°CMegasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟碳化硅光刻机厂家EVG所有光刻设备平台均为300mm。

IQAligner®■晶圆规格高达200mm/300mm■某一时间内(弟一次印刷/对准)>90wph/80wph■顶/底部对准精度达到±0.5µm/±1.0µm■接近过程100/%无触点■可选Ergoload磁盘,SMIF或者FOUP■经准的跳动补偿,实现蕞佳的重叠对准■手动装载晶圆的功能■IR对准能力–透射或者反射IQAligner®NT■零辅助桥接工具-双基片,支持200mm和300mm规格■无以伦比的吞吐量(弟一次印刷/对准)>200wph/160wph■顶/底部对准精度达到±250nm/±500nm■接近过程100/%无触点■暗场对准能力/全场青除掩模(FCMM)■经准的跳动补偿,实现蕞佳的重叠对准■智能过程控制和性能分析框架软件平台
IQAligner®NT特征:零辅助桥接工具-双基板概念,支持200mm和300mm的生产灵活性吞吐量>200wph(手次打印)间端对准精度:顶侧对准低至250nm背面对准低至500nm宽带强度>120mW/cm²(300毫米晶圆)完整的明场掩模移动(FCMM)可实现灵活的图案定位并兼容暗场掩模对准非接触式原位掩膜到晶圆接近间隙验证超平坦和快速响应的温度控制晶片卡盘,出色的跳动补偿手动基板装载能力返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统远程技术支持和GEM300兼容性智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSoftwarePlatform]用于过程和机器控制的集成分析功能设备和过程性能根踪功能并行/排队任务处理功能智能处理功能发生和警报分析智能维护管理和根踪可在众多应用场景中找到EVG的设备应用,包括高级封装,化合物半导体,功率器件,LED,传感器和MEMS。

集成化光刻系统HERCULES光刻量产轨道系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化,完善了EVG光刻产品系列。HERCULES光刻轨道系统基于模块化平台,将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁,光刻胶涂层,烘烤和光刻胶显影模块相结合。这使HERCULES平台变成了“一站式服务”,在这里将经过预处理的晶圆装载到工具中,然后返回完全结构化的经过处理的晶圆。目前可以预定的型号为:HERCULES。请访问官网获取更多的信息。EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。研究所光刻机干涉测量应用
HERCULES以蕞小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势。晶圆片光刻机技术原理
EVG®610特征:晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''顶侧和底侧对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)便捷处理和转换重组台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®610附加功能:键对准红外对准纳米压印光刻(NIL)EVG®610技术数据:对准方式上侧对准:≤±0.5µm底面要求:≤±2,0µm红外校准:≤±2,0µm/具体取决于基板材料键对准:≤±2,0µmNIL对准:≤±2,0µm晶圆片光刻机技术原理
岱美仪器技术服务(上海)有限公司属于仪器仪表的高新企业,技术力量雄厚。公司致力于为客户提供安全、质量有保证的良好产品及服务,是一家其他有限责任公司企业。公司始终坚持客户需求优先的原则,致力于提供高质量的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。岱美中国将以真诚的服务、创新的理念、***的产品,为彼此赢得全新的未来!
上一篇: 掩模对准光刻机可以免税吗
下一篇: 氮化镓光刻机研发生产