联电轮廓仪研发可以用吗
如何正确使用轮廓仪
准备工作
1.测量前准备。
2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。
3.擦净工件被测表面。
测量
1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。
2.工件固定确认工件不会出现松动或者其它因素导致测针与工件相撞的情况出现
3.在仪器上设置所需的测量条件。
4.开始测量。测量过程中不可触摸工件更不可人为震动桌子的情况产生。
5.测量完毕,根据图纸对结果进行分析,标出结果,并保存、打印。
轮廓的角度处理:
角度处理:两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理:两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理:圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理:直线度、凸度、LG凸度、对数曲线
轮廓仪可用于高精密材料表面缺 陷超精密表面缺 陷分析,核探测。联电轮廓仪研发可以用吗

轮廓仪的技术原理
被测表面(光)与参考面(光)之间的光程差(高度差)形成干涉
移相法(PSI) 高度和干涉相位
f = (2p/l ) 2 h
形貌高度: < 120nm
精度: < 1nm
RMS重复性: 0.01nm
垂直扫描法
(VSI+CSI)
精度: /1000 干涉信号~光程差位置
形貌高度: nm-mm,
精度: >2nm
干涉测量技术:快速灵活、超纳米精度、测量精度不受物镜倍率影响
以下来自网络:
轮廓仪,能描绘工件表面波度与粗糙度,并给出其数值的仪器,采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器,作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分广 泛。
中芯国际轮廓仪国内用户但是在共焦图像中,通过多针 孔盘的操作滤除模糊细节(未聚焦),只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。

轮廓仪在集成电路的应用
封装bump测量
视场:72*96(um)物镜:干涉50X 检测位置:样品局部
面减薄表面粗糙度分析
封装:300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析 面粗糙度分析:2D, 3D显示;线粗糙度分析:Ra, Ry,Rz,…
器件多层结构台阶高 MEMS 器件多层结构分析、工艺控制参数分析
激光隐形切割工艺控制 世界唯 一的能够实现激光槽宽度、深度自动识别和数据自动生成,大 大地缩
短了激光槽工艺在线检测的时间,避免人工操作带来的一致性,可靠性问题
欢迎咨询。
轮廓仪的物镜知多少?
白光干涉轮廓仪是基于白光干涉原理,以三维非接触时方法测量分析样片表面形貌的关键参数和尺寸,典型结果包括:
表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,台阶高度,锥角等)
几何特征(关键孔径尺寸,曲率半径,特征区域的面积和集体,特征图形的位置和数量等)
白光干涉系统基于无限远显微镜系统,通过干涉物镜产生干涉条纹,使基本的光学显微镜系统变为白光干涉仪。
因此物镜是轮廓仪最核 心的部件,
物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求,为了满足各种精度的需求,需要提供各种物镜,例如标配的10×, 还有2.5×,5×,20×,50×,100×,可选。
不同的镜头价格有很大的差别,因此需要量力根据需求选配对应的镜头哦。
轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:
晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷,因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测,检测相应的轮廓尺寸。 视场范围:560×750um(10×物镜) 具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机 。

轮廓仪、粗糙度仪、三坐标的区别:
关于轮廓仪和粗糙度仪
轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状,比如:汽车零件中的沟槽的槽深、槽宽、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圆柱表面素线的直线度等参数。总之,轮廓仪反映的是零件的宏观轮廓。粗糙度仪的功能是测量零件表面的磨加工/精车加工工序的表面加工质量,通俗地讲,就是零件表面加工得光不光(粗糙度老国标叫光洁度),即粗糙度反映的是零件加工表面的微观情况。
但是,轮廓仪和粗糙度仪关系其实挺密切,现在有一种仪器叫做粗糙度轮廓测量一体机,就是在轮廓仪上加装了粗糙度测量模块,这样既可以测量轮廓尺寸,又可以测量粗糙度,市场上典型产品就是中图仪器的SJ5701粗糙度轮廓仪。
在结构上,轮廓仪基本上都是台式的,而粗糙度仪以手持式的居多,当然也有台式的。 在结构上,轮廓仪基本上都是台式的,而粗糙度仪以手持式的居多,当然也有台式的。研究所轮廓仪轮廓测量应用
隔振系统:集成气浮隔振 + 大理石基石。联电轮廓仪研发可以用吗
1)白光轮廓仪的典型应用:
对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺 陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。
2)共聚焦显微镜方法
共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多针 孔盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多针 孔盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。反射光通过MPD的针 孔减小到聚焦的部分落在CCD相机上。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节,但是在共焦图像中,通过多针 孔盘的操作滤除模糊细节(未聚焦),只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。因此,共聚焦显微镜能够在纳米范围内获得高 分辨率。 每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片,在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠,共焦显微镜通过压电驱动器和物镜的精确垂直位移来实现。200到400个共焦图像通常在几秒内被捕获,之后软件从共焦图像的堆栈重建精确的三维高度图像。
联电轮廓仪研发可以用吗