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制造工艺的进步，随着制造工艺的不断进步，Ti芯片的制造技术也在不断发展。从较初的晶体管技术到现在的CMOS技术，Ti芯片的制造工艺已经经历了多次革新。其中，新的制造工艺是FinFET技术，它可以提高芯片的性能和功耗比，同时还可以减小芯片的尺寸，提高集成度。随着人工智能、物联网等新兴技术的发展，Ti芯片的应用场景也在不断扩大，对芯片的性能和功耗等方面提出了更高的要求。因此，未来Ti芯片的制造工艺将会更加精细化和高效化，同时还需要更加注重芯片的可靠性和安全性。由于其小尺寸和无铅设计，WQFN封装可以提供更高的可靠性和更低的成本，同时也便于制造过程和可靠性测试。LM3915N-1

集成电路具有体积小，重量轻，引出线和焊接点少，寿命长，可靠性高，性能好等优点，同时成本低，便于大规模生产。它不只在工、民用电子设备如收录机、电视机、计算机等方面得到普遍的应用，同时在jun事、通讯、遥控等方面也得到普遍的应用。用集成电路来装配电子设备，其装配密度比晶体管可提高几十倍至几千倍，设备的稳定工作时间也可较大程度上提高。集成电路技术包括芯片制造技术与设计技术，主要体现在加工设备，加工工艺，封装测试，批量生产及设计创新的能力上。SN74AHC04PWRTPS7A88芯片提供了多种封装形式，以适应不同的应用需求。

世界集成电路产业结构的变化及其发展历程，自1958年美国德克萨斯仪器公司(TI)发明集成电路(IC)后，随着硅平面技术的发展，二十世纪六十年代先后发明了双极型和MOS型两种重要的集成电路，它标志着由电子管和晶体管制造电子整机的时代发生了量和质的飞跃，创造了一个前所未有的具有极强渗透力和旺盛生命力的新兴产业集成电路产业。回顾集成电路的发展历程，自发明集成电路至今40多年以来，"从电路集成到系统集成"这句话是对IC产品从小规模集成电路(SSI)到这里特大规模集成电路(ULSI)发展过程的较好总结，即整个集成电路产品的发展经历了从传统的板上系统(System-on-board)到片上系统(System-on-a-chip)的过程。

ADI 亚德诺，AnalogDevices (模拟器件公司)----芯片命名规则，1. AD产品以“AD”“ADV”居多，也有“OP”或者“RFF”“AMP”、“ SMP'、“SSM'、“TMP”、“TMS”等开头的。2. 后缀的说明，J表示民品(0-70°C)，N 表示普通塑封。R 表示表贴。D 或Q的表示陶封，工业级(45°C-85°C)，H 表示圆帽。SD 或883属jun品。3. ADI专门使用命名规则，AD公司标准单片及混合集成电路产品型号型号编码：AD XXXX A Y Z，AD公司产品前缀，AD 为标准编码；其它如：，ADG 模拟开关或多路器，ADSP 数字信号处理器 DSP。TI提供了丰富的参考设计和工具，可以帮助设计师快速选择和评估电源管理芯片。

特点，集成电路具有体积小，重量轻，引出线和焊接点少，寿命长，可靠性高，性能好等优点，同时成本低，便于大规模 生产。它不只在工、民用电子设备如收录机、电视机、计算机等方面得到普遍的应用，同时在jun事、通讯、遥控等 方面也得到普遍的应用。用集成电路来装配电子设备，其装配密度比晶体管可提高几十倍至几千倍，设备的稳定工作时间也可较大程度上提高。集成电路分类：（1）按应用领域分 ，集成电路按应用领域可分为标准通用集成电路和专门使用集成电路。(二)按外形分，集成电路按外形可分为圆形(金属外壳晶体管封装型,一般适合用于大功率)、扁平型(稳定性好,体积小)和双列直插型。IC设计企业更接近市场和了解市场，通过创新开发出高附加值的产品，直接推动着电子系统的更新换代。SN74AHC04PWR

根据应用的需求，选择具有所需功能集成的电源管理芯片。LM3915N-1

集成电路制作工艺，集成电路按制作工艺可分为半导体集成电路和膜集成电路。膜集成电路又分类厚膜集成电路和薄膜集成电路。集成度高低，集成电路按集成度高低的不同可分为：SSIC 小规模集成电路(Small Scale Integrated circuits)；MSIC 中规模集成电路(Medium Scale Integrated circuits)；LSIC 大规模集成电路(Large Scale Integrated circuits)；VLSIC 超大规模集成电路(Very Large Scale Integrated circuits)；ULSIC特大规模集成电路(Ultra Large Scale Integrated circuits)；GSIC 巨大规模集成电路也被称作极大规模集成电路或超特大规模集成电路(Giga Scale Integration)。LM3915N-1