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TI的电源芯片系列普遍应用于手机、平板电脑、无线通信设备、工业自动化、医疗设备等领域。TI电源管理芯片选型指南，参考设计和工具：TI提供了丰富的参考设计和工具，可以帮助设计师快速选择和评估电源管理芯片。您可以访问TI的官方网站，查找相关的参考设计和工具。总结起来，选择TI电源管理芯片时需要考虑应用需求、电源拓扑、效率要求、功能集成、尺寸和封装、特殊功能需求等因素。通过充分利用TI提供的参考设计、工具，您可以更好地选择合适的电源管理芯片，以满足您的设计需求。TI提供了多种封装选项，如QFN、BGA、SOT等，以满足不同的设计需求。CD4023BF

TI 的电源管理芯片中，可以看到大量TPS系列的型号，根据TI 的命名规则，如DC/DC 转换器（集成开关）一般为TPS5（6）XXXX、TL497A。一般来说TPS（Ti Performance Solution）表示高性能，TLV（Low voltage） 则表示低电压。例如：TPS54335ADDAR、TLV62565DBVR、SN54LSX X X /HC/HCT/或SNJ54LS/HC/HCT中的后缀说明:1. SN或SNJ表示TI品牌；2. SN军标，带N表示DIP封装，带J表示DIP (双列直插)，带D表示表贴，带W表示宽体；3. SNJ军级，后面代尾缀F或/883表示已检验过的军级。TPS2012ADRG4对于TPS7A88这样的高性能LDO芯片来说，WQFN封装可以提供更多选择，以满足不同应用需求。

世界集成电路产业结构的变化及其发展历程，自1958年美国德克萨斯仪器公司(TI)发明集成电路(IC)后，随着硅平面技术的发展，二十世纪六十年代先后发明了双极型和MOS型两种重要的集成电路，它标志着由电子管和晶体管制造电子整机的时代发生了量和质的飞跃，创造了一个前所未有的具有极强渗透力和旺盛生命力的新兴产业集成电路产业。回顾集成电路的发展历程，自发明集成电路至今40多年以来，"从电路集成到系统集成"这句话是对IC产品从小规模集成电路(SSI)到这里特大规模集成电路(ULSI)发展过程的较好总结，即整个集成电路产品的发展经历了从传统的板上系统(System-on-board)到片上系统(System-on-a-chip)的过程。

集成电路，英文为Integrated Circuit，缩写为IC；顾名思义，就是把一定数量的常用电子元件，如电阻、电容、晶体管等，以及这些元件之间的连线，通过半导体工艺集成在一起的具有特定功能的电路。是20世纪50年代后期到60年代发展起来的一种新型半导体器件。它是经过氧化、光刻、扩散、外延、蒸铝等半导体制造工艺，把构成具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件及它们之间的连接导线全部集成在一小块硅片上，然后焊接封装在一个管壳内的电子器件。其封装外壳有圆壳式、扁平式或双列直插式等多种形式。电子芯片的生命周期较短，需要不断创新和更新来满足市场需求。

制造工艺的进步，随着制造工艺的不断进步，Ti芯片的制造技术也在不断发展。从较初的晶体管技术到现在的CMOS技术，Ti芯片的制造工艺已经经历了多次革新。其中，新的制造工艺是FinFET技术，它可以提高芯片的性能和功耗比，同时还可以减小芯片的尺寸，提高集成度。随着人工智能、物联网等新兴技术的发展，Ti芯片的应用场景也在不断扩大，对芯片的性能和功耗等方面提出了更高的要求。因此，未来Ti芯片的制造工艺将会更加精细化和高效化，同时还需要更加注重芯片的可靠性和安全性。LDO系列芯片普遍应用于电子设备中的模拟电路、传感器、射频模块等。TPS2501DRCR

根据应用的需求，选择具有所需功能集成的电源管理芯片。CD4023BF

典型的如英国雷达研究所的科学家达默，他在1952年的一次会议上提出：可以把电子线路中的分立元器件，集中制作在一块半导体晶片上，一小块晶片就是一个完整电路，这样一来，电子线路的体积就可较大程度上缩小，可靠性大幅提高。这就是初期集成电路的构想，晶体管的发明使这种想法成为了可能，1947年在美国贝尔实验室制造出来了头一个晶体管，而在此之前要实现电流放大功能只能依靠体积大、耗电量大、结构脆弱的电子管。晶体管具有电子管的主要功能，并且克服了电子管的上述缺点，因此在晶体管发明后，很快就出现了基于半导体的集成电路的构想，也就很快发明出来了集成电路。CD4023BF