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二次电子或二次电子激发来表示二次、三次等电子、空穴、激子和等离子体。有时为了区分电子激发，能量较高的称为“射线”，而几个里德堡能量(1Ry=13.6 eV)甚至更低的称为“二次激发”。这种雪崩过程一直持续到产生的电子或光子不能产生进一步的电离。一旦电子(空穴)的能量小于电离阈值Et，它就开始与衬底的振动相互作用，这被称为电子-声子弛豫或热化阶段。在热化阶段，电子向导带底部移动，空穴向价带顶部移动。因此，电子-空穴对的能量0终将等于基质晶体的带隙能量Eg。在电子-声子弛豫过程中，电子-空穴对的数目保持不变。由于所有的电离过程0终都会形成电子-空穴对，我们可以假设初始激发的特征信息在长堆弛豫过程中丢失了。因此，0终产生的电子-空穴对Neh的数量与物质吸收的伽马量子的能量E或其他辐射能量成正比。这是产生一对热化电子空穴对所需的平均能量。对于离子晶体，它大约等于其带隙能量Eg的1.5到2.0倍；对于具有主要共价键的材料，例如半导体，它大约等于带隙能量Eg的3到4倍。发射声子损失的能量与基体吸收的总能量之比，对于离子晶体一般大于30%；对于半导体，比例一般大于60%。在许多情况下，无机闪烁体中由于热化而损失的能量占据了总能量损失的主要部分。 文献提出惰性气氛生长的纯YAP晶体很容易在波长小于280nm的紫外辐照下着色.陕西CeYAP晶体批发价
c为光速，me为电子质量，e为电子电荷，为发光波长，f为发光跃迁的振子强度，n为闪烁体的折射率。显然，发射波长在紫外范围内的闪烁体和折射率较高的基体可能具有较快的衰减时间，这与一些实验结果是一致的。根据上述公式，电偶极子允许跃迁的0快衰减时间是几ns。事实上，大多数无机闪烁晶体都有两个或更多的衰变时间常数。对于具有两个衰减时间常数的晶体，发光强度随时间的变化可以表示如下：
J(t)=exp(-t/1) + exp(-t/2) (1.4)
上式中的(Nph)1表示衰变时间组分1中发射的光子数。当1小于2时，前者称为快衰减组分，后者称为慢衰减组分
(2)闪烁晶体的本质是能量转换器，所以能量转换效率()是表征所有闪烁晶体0基本的参数，是指闪烁晶体辐射的光子能量(Ep)与闪烁晶体吸收的总能量(er)之比。如公式(1.5) [10]所示：
(1.5)
在上式中，闪烁晶体发射光子的平均能量是发射的闪烁光子数。
光输出(LR)是反映闪烁体晶体能量转换效率的0重要的物理参数，是指闪烁体吸收并消耗1mV射线能量后发出的可见/紫外光子数。即闪烁过程中产生的闪烁光子数与闪烁晶体中光线或粒子损失的能量之比 湖南抛光CeYAP晶体订做价格闪烁材料的发展历史可以大致分为几个阶段？。
Ce: YAP晶体自吸收机制分析
从以上实验可以看出，存在自吸收的累积效应，随着厚度和浓度的增加而增加。在氧气氛中退火后，自吸收增加，而在还原气氛中，自吸收减少。自吸收随ce离子浓度的增加而增加，与Ce离子有明显的相关性，说明杂质离子引起自吸收有两种可能：一种可能是Ce原料附带的；另一种可能是其他原料中的杂质可以与Ce离子相互作用形成吸收中心。如果Ce原料上有杂质附着，CeO2原料纯度为5N，Ce离子的熔体浓度小于0.6%，两者之间的倍增为0.1ppm数量级，那么这种杂质的可能性很小。
过渡金属离子掺杂对YAP晶体透射边缘的影响
由于过渡金属离子D层具有更多的电子能级，容易受到晶场的影响，因此YAP晶体中可能存在更多的吸收带。为了了解过渡金属掺杂对Ce: YAP自吸收的可能影响，我们比较了掺杂过渡金属如铜(0.5%)、铁(0.5%)和锰(0.5%)的纯YAP晶体的透射光谱。从图4-11可以看出，Mn掺杂的yap在480nm处有明显的吸收峰，而Cu掺杂的YAP在370nm左右有吸收峰，Fe掺杂的YAP将在下一节讨论。我们生长的Ce: YAP在350nm ~ 500nm范围内没有额外的吸收峰，少量过渡金属离子的存在只会对吸收产生线性叠加效应，低浓度吸收不足以引起Ce: YAP晶体的自吸收，因此过渡金属离子污染不太可能引起Ce3360Yap吸收带红移。同时，GDMS分析结果还表明，我们生长的Ce: YAP晶体中过渡金属的含量小于10ppm，对晶体发光的影响可以忽略不计。4.1.5紫外线照射对Ce: YAP晶体自吸收的影响 退火和辐照对纯YAP和Fe:YAP晶体吸收谱有影响吗？
对于掺Ce3的无机闪烁晶体，高能射线作用下的闪烁机制一般认为如下[16，17]:晶体吸收高能射线后，晶体内部产生大量的热化电子空穴对。由于铈元素的四阶电离能是所有稀土元素中比较低的(如图1-6所示)，晶体发光中心的Ce3离子首先俘获一个空穴形成Ce4离子。然后一个电子被捕获，变成Ce3。此时，电子和空穴被铈离子重组。复合产生的能量将Ce3离子从4f基态激发到5d激发态，然后Ce3离子从5d激发态辐射弛豫到4f基态发光由于掺杂铈离子的无机闪烁体通常具有高光输出和快速衰减的特点，自20世纪80年代末和90年代初以来，国内外对掺杂铈离子的无机闪烁体进行了大量的研究和探索[18-28]，涉及的闪烁体包括从氟化合物和溴化物到氧化物和硫化物的无机闪烁体。温梯法如何大尺寸CeYAG晶体生长？贵州CeYAP晶体成本价
不同气氛生长Ce: YAP晶体 XEL谱和衰减时间谱？陕西CeYAP晶体批发价
需要注意的是，在高活化剂浓度的晶体中，也有可能是热电子碰撞激发了发光中心。电子和空穴在迁移阶段的能量损失取决于电子和空穴相对于发光中心的空间分布。如果激发路径中产生的电子空穴对位于发光中心附近，复合过程将是有效的；否则，这些电子或空穴将被俘获。在无机晶体中，各种杂质和晶格缺陷可以用作电子和空穴的陷阱。例如，离子晶体中的阴离子空位是电子的有效俘获中心。捕获电子的阴离子空位是稳定的电子缺陷，即F中心(如图1-3所示)。如果电子或空穴被深陷阱俘获，这些俘获的载流子将不会参与闪烁过程。掺杂到晶体中的活化剂也会导致陷阱的形成。当CsI和NaI含有超过0.02%的Tl时，将在晶体中形成复合活化剂中心(聚集体)。这些聚集体也是晶体中的深陷阱。因此，Tl掺杂浓度为0.02%至0.03%的NaI和CsI显示出比较大光输出陕西CeYAP晶体批发价
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