南京铈靶材价钱

时间:2022年02月16日 来源:

作为本发明 的技术方案,所述靶材的比较大厚度为28-30mm,例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本发明 的技术方案,所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。作为本发明 的技术方案,所述靶材呈凹形结构。作为本发明 的技术方案,所述靶材包括用于溅射的溅射面。 地,所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面。作为本发明 的技术方案,所述斜面与水平面的夹角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本发明 的技术方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。 地,所述平面为圆形。 地,所述第二平面为环形。采用闭环控制反应气体的通入量。南京铈靶材价钱

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布:通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。密度:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一扬州Cr靶材价格溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域。

作为本发明 的技术方案,所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。作为本发明 的技术方案,所述靶材呈凹形结构。作为本发明 的技术方案,所述靶材包括用于溅射的溅射面。 地,所述溅射面包括***平、第二平面和斜面。作为本发明 的技术方案,所述斜面与水平面的夹角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。作为本发明 的技术方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。 地,所述***平面为圆形。 地,所述第二平面为环形。作为本发明 的技术方案,所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种。作为本发明 的技术方案,所述背板的材质包括铜和/或铝。作为本发明 的技术方案,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为;所述靶材表面的硬度为20-30hv。

靶材抛光装置100还包括:防护层400,所述防护层400位于所述固定板200与所述抛光片300之间。防护层400为弹性材料,能够在所述固定板200及靶材间提供缓冲,避免所述固定板200触撞靶材导致靶材受损。防护层400的厚度为30mm~35mm。若所述防护层400的厚度过小,所述防护层400起到的缓冲效果差,难以有效的保护靶材。若所述防护层400的厚度过大,使得所述防护层400的体积过大,进而造成所述靶材抛光装置100的体积过大,对操作者使用所述靶材抛光装置100带来不必要的困难。防护层400的材料。在其他实施例中,所述防护层的材料还可以为橡胶或棉花。防护层400与所述固定板200间通过粘结剂相粘接。所述防护层400与所述抛光片300间也通过粘结剂相粘接。在其他实施例中,所述抛光片朝向所述防护层的表面上具有勾刺结构,所述防护层与所述抛光片间通过所述勾刺结构相固定。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会降低。

真空镀膜机分类真空镀膜机在近二十年内发展迅速,其涉足的行业包括:塑料、五金、建筑、模具、装饰、陶瓷、汽车等行业,而真空镀膜设备根据各大个行业的功能需求,发展为蒸发真空镀膜机、多弧离子真空镀膜机、磁控溅射真空镀膜机。其中蒸发机主要应用于塑料、五金等行业。表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备,所镀膜层特点:牢固且细密,是工业化生产的理想设备,其大的优点是它的环保性,真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备,无须环保部门审批。多弧离子真空镀膜机主要应用于表面涂装PVD膜层,是目前世界上先进涂装PVD膜层设备,真空所自主研发生产的多弧离子真空镀膜设备运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话,简便。阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。南京铈靶材价钱

靶材密度越高,薄膜的性能越好。南京铈靶材价钱

气体压强对靶溅射电压的影响   在磁控溅射或反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,工作气体或反应气体压强对磁控靶溅射电压能够造成一定的影响。   1.工作气体压强对靶溅射电压的影响   一般的规律是:在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着工作气体(如氩气)压强(0.1~10Pa)的逐步增加,气体放电等离子体的密度也会同步增加,致使等离子体等效阻抗减小,磁控靶的溅射电流会逐步上升,溅射工作电压亦会同步下降。   2. 反应气体压强对靶溅射电压的影响   在反应磁控溅射镀膜的工艺过程中,在真空设备环境条件确定和靶电源的控制面板设置参数不变时,随着反应气体(如氮气、氧气)压强(或流量)的逐步增加(一般应注意不要超过工艺设定值的上限值),随着磁控靶面和基片(工件)表面逐步被绝缘膜层覆盖,阴-阳极间放电的等效阻抗也会同步增高,磁控靶的溅射电流会逐步下降(直至“阴极中毒”和“阳极消失”为止),溅射工作电压亦会同步上升。南京铈靶材价钱

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外知名研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列高品质溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供高品质的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。

上一篇: 湖北镧锶钴氧靶材

下一篇: 江苏金靶材

热门标签
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责