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PECVD制备氢化非晶硅薄膜本实验采用单晶硅片为衬底,按石英玻璃基片的清洗步骤清洗后烘干,然后置于PECVD系统中。样品制备条件为衬底温度250℃,工作气压120Pa,射频功率100W,气体流量SiH4/H2=15/5sccm,沉积时间30min,制备得到a-Si:H薄膜样品。(1)非晶硅薄膜的表面粗糙度会随着溅射功率的增大而增大,膜的均匀性将会变差;(2)非晶硅薄膜的表面粗糙度随着衬底加热温度的增大而减小,非晶硅薄膜均匀性变好;(3)在0.5Pa至2.0Pa范围内,随着氩气气压的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微变大;(4)随着溅射时间的增加,膜的厚度成非线性增加,沉积速率开始较快,之后逐渐减慢,膜的表面粗糙度逐渐变大;(5)随着溅射气压的增大,沉积速率有所降低。溅射靶材射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。扬州铜铬镍靶价钱
真空离子镀在航空航天方面的应用: 在现代飞机、航空发动机或航空仪表中,特别是在航宇器,如宇宙飞船、人造卫星中,有不少旋转零件都要求有良好的润滑,但往往由于封存过久、环境温度过高或太空挥发等原因,普通油脂润滑剂已不再适用,从而提出以固体润滑剂代替。试验表明,用离子镀来制作固体润滑膜,比现有其他方法为优。不但附着力强,镀层又薄又匀,不影响零件的尺寸精度和公差配合。经济性也好,少许润滑材料即可镀很大面积。润滑膜的质量也较好,摩擦系数小,使用寿命也长。例如有一个人造卫星上的精密轴承,未镀前工作寿命为几分钟,根本无法使用;但是经离子镀固体润滑膜后,则可在飞行中可靠地工作数千小时之久。离子镀不能够镀许多种常温固体润滑材料,而且还能镀复各种高温固体润滑材料,有的甚至可以在摄氏八百度以上的高温下发挥良好的润滑作用。可镀的固体润滑材料有银、金、铜、铅、铅锡合金、氟化物等。合肥四氧化三铁靶功能纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有较高的电迁移率和稳定的光电性能,是制备微电子器件、薄膜晶体管、大面积平板液晶显示的质量材料。多晶硅薄膜被公认为是制备低耗、理想的薄膜太阳能电池的材料。因此,如何制备多晶硅薄膜是一个非常有意义的研究课题。固相法是制备多晶硅薄膜的一种常用方法,它是在高温退火的条件下,使非晶硅薄膜通过固相相变而成为多晶硅薄膜。本文采用固相法,利用X- ray 衍射及拉曼光谱,对用不同方法制备的非晶硅薄膜的晶化过程进行了系统地研究。 在硅薄膜太阳能电池材料中,非晶硅薄膜太阳能电池制造工艺相对简单,但是存在光电转换效率低,寿命短,稳定性不好,并且存在光致衰退效应(S-W 效应)等缺点。单晶硅薄膜太阳能电池因为制作工艺和制作成本等原因始终得不到推广,而多晶硅薄膜材料在长波段具有光敏性,能有效的吸收可见光并且具有光照稳定性。
真空离子镀的耐腐蚀性: 金属零件是要锈蚀的,但如果零件上镀有一层防蚀镀层,就能防止零件生锈。由于离子镀所获得的镀层致密度高,少,耐腐蚀性能好,并能沉积许多其他工艺至今不能沉积的优良防腐蚀镀层。因此,离子镀目前在镀防腐蚀材料方面应用广。如水上飞机的壁板及其他外表零件,可用此法镀复防止盐雾和海水腐蚀的防蚀镀层;与铝合金零件相配合的其他材料零件也可用此法镀铝,以防止电位差腐蚀。此外,随着飞机飞行速度和高度的提高以及宇宙探索的进展,钛合金的应用越来越多,如果仍象铝合金零件那样采用镀镉防腐蚀,使用中就有镉脆的危险;但如若镀以三氧化二铝,则能完全满足要求。不过电镀等工艺是无法镀这种材料的。离子镀却能大显神通。到目前为止,适合于用离子镀的防蚀材料除氧化铝以外,还有铬、钛、钽、不锈钢等。所镀的航空零件有螺钉、螺帽、铆钉、销钉、导管、接头、陀螺转子、精密齿轮、金属密封环等。而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。
基于非晶IGZO真空材料的阻变存储器与忆阻器 从真空材料结构及电子结构角度入手,将In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料,由于球对称的In 5s 轨道交叠较大,使得该材料具有形变对电学输运影响较小且迁移率较高的特点。 利用上述材料优势,采用室温工艺,在塑料衬底上制作了高性能IGZO 柔性阻变存储器。器件在连续十万次大角度弯折测试中,性能稳定,存储信息未丢失。变温电学输运特性的研究表明:阻变行为与氧离子移动密切相关,该存储器的低阻导电通道由缺氧局域结构组成,而缺氧态的局部氧化导致了存储器由低阻态向高阻态的转变。 在此基础上,利用IGZO 非晶薄膜的电学性质可调节性及其对激励信号可作出动态反应等特点,设计并制备了由两层不同含氧量IGZO 薄层构成的忆阻器件;实现了对人脑神经突触多种基本功能的仿生模拟,涉及兴奋性突触后电流、非线性传输特性、长时程/短时程可塑性、刺激频率响应特性、STDP 机制、经验式学习等多个方面。溅射靶材安装过程中**重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射冷却壁之间建立很好的导热连接。成都钪靶
靶中毒的解决办法:采用闭环控制反应气体的通入量。扬州铜铬镍靶价钱
磁控溅射不起辉的常见原因有哪些,怎么应对?磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因有:
1. 靶材安装准确否?
2. 靶材表面是否干净------------金属靶表面氧化或有不清洁物质,打磨清理干净后即可。
3. 起辉电源是否正常------------检查靶电源。
4. 靶与地线之间短路
----------关掉机器,把设备的溅射靶卸下来,靶附近的零件仔细清洗一下;
----------压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。
5. 永磁靶表面场强是否下降太多?
---------如果下降太多,需要更换磁钢。 扬州铜铬镍靶价钱
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外知名研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列高品质溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供高品质的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。