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涂布技术在真空镀铝膜中的应用 将涂布技术与真空镀铝技术结合起来，通过在基材薄膜或镀铝薄膜上涂布功能层，以达到提高镀铝层的附着牢度、耐水煮性能、阻隔性能、装饰性能等，满足不同应用领域的要求。 一．经过等离子预处理的真空镀铝薄膜虽然镀铝层牢度有了明显提高，但对于一些对镀铝层附着牢度要求更高，或者需要用于水煮杀 菌条件时仍然不能满足要求。为了满足上述要求，通过在基材薄膜表面涂布一层丙烯酸类的化学涂层，该涂层不对镀铝层有优异的粘附性能，同时可以满足后续的水煮杀 菌条件。涂布后的包装可以满足巴氏杀 菌的要求，其镀铝层不会因为水煮而发生氧化。  二．为进一步提高镀铝膜的阻隔性能，同时保护镀铝层在后续的印刷、复合等加工过程中不被破坏，可以通过在镀铝层上涂布一层高阻隔的纳米涂层或聚合物涂层来实现。 三．为提高镀铝膜的装饰性能，在基材薄膜镀铝前或镀铝后进行各种颜色的涂布，或模压后再进行镀铝，使得镀铝膜具有多彩的颜色或具有镭射效果。此类产品可分为三种：包装用膜、装饰用膜、标示用膜。主要应用于礼品、礼盒的装饰或防伪包装用途，如食品、药品、玩具等的外包装以及酒等的防伪包装。需要后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。苏州GZO靶材型号

等离子预处理工艺在真空镀铝膜中的应用。 等离子体是电离了的气体。它由电子、离子和中性粒子3种成分组成，其中电子和离子的电荷总数基本相等，故整体是电中性的。在基材薄膜镀铝前，通过等离子处理装置将电离的等离子体中的电子或离子打到基材薄膜表面，一方面，可以打开材料的长分子链，出现高能基团；另一方面，经打击使薄膜表面出现细小的凹陷，同时还可使表面杂质离解、重解。电离时放出的臭氧有强氧化性，附着的杂质被氧化而除去，使镀铝基材薄膜的表面自由能提高，达到提高镀铝层附着牢度的目的。 等离子预处理技术在不同公司其称呼不同，如英国Bobst公司、德国Leybold Optic莱宝光电等称之为等离子预处理，美国Applied Material公司称之为辉光放电，英国Rexam公司为其注册商标为Camplus技术。另外，不同公司其使用的工艺气体的组分也有所不同，多数公司使用氧气和氩气的组合，也有少数公司使用氮气或氧气与氮气的组合。实践证明经过等离子处理后的薄膜其镀铝层附着牢度可以提高30-50%，且表现为非极性材料提高幅度高于极性材料。苏州Be靶材作用采用中频电源或射频电源。

真空镀膜机在塑胶行业的应用  真空镀膜机应该普遍，在塑料行业的应该也很普遍。而塑胶在生活，工业，电器，航空等领域都有涉及。塑胶具有易成型，价格便宜，质量轻，防腐蚀等优点，但塑胶的缺点也比较突出，其缺点也制约了塑胶的应用范围，如不美观、易老化、机械性能差、易碎易变型、耐热差等。通过真空镀膜机的应用，使塑胶表面镀上特定膜层，东莞汇成真空自主研发生产的蒸发真空镀膜设备将镀膜机材料和塑胶产吕完美结合，提高了塑胶制品的物理、化学性能。 一、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性增加； 二、使塑料表面有导电性； 三、容易清洗，不吸尘； 四、改善塑胶外观，表面光滑，金属感强，色泽光鲜，装饰性提高。

影响磁控靶溅射电压的主要因素有：靶面磁场、靶材材质、气体压强、阴-阳极间距等。本文详细分析这些因素距对靶溅射电压的影响。

一、 靶面磁场对靶溅射电压的影响 1. 磁控靶的阴极工作电压，随着靶面磁场的增加而降低，也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而降低。溅射电流也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而加大。这是因为靶的溅射刻蚀槽面会越来越接近靶材后面的磁钢的强磁场。因此，靶材的厚度是有限制的。较厚的非磁性靶材能够在较强的磁场中使用。 2. 铁磁性靶材会对磁控靶的溅射造成影响，由于大部分磁力线从铁磁性材料内部通过，使靶材表面磁场减少，需要很高电压才能让靶面点火起辉。除非磁场非常的强，否则磁性材靶材必须比非磁性材料要薄，才能起辉和正常运行(永磁结构的Ni靶的典型值<0.16cm，磁控靶非特殊设计最大值一般不宜超过3mm，Fe，co靶的最大值不超过2mm;电磁结构的靶可以溅射厚一些的靶材，甚至可达6mm厚)才能起辉和正常运行。正常工作时，磁控靶靶材表面的磁场强度为0.025T~0.05T左右;靶材溅射刻蚀即将穿孔时，其靶材表面的磁场强度大为提高，接近或大于0.1T左右。 选择高纯、超细粉末作为原料。

什么是3D玻璃？ 现在数码产品使用的玻璃盖板分为：2D玻璃，2.5D玻璃，还有3D玻璃。2D玻璃就是普通的纯平面玻璃，没有任何弧形设计；2.5D玻璃则为中间是平面的，但边缘是弧形设计；而3D屏幕，无论是中间还是边缘都采用弧形设计。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 产品设计需求。3C 产品设计如智能手机、智能手表、平板计算机、可穿戴式智能产品、仪表板等陆续出现 3D 产品，已经明确引导3D曲面玻璃发展方向。3D曲面玻璃轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤、耐候性佳等优点，可型塑做出3D多形状外观具有产品特殊设计新颖性与质感佳，又可增加弧形边缘触控功能带来出色的触控手感、无线充电机能，并能解决天线布置空间不足及增强收讯功能，使产品更美观出色，产品设计差异化使消费者更能青睐。溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。南通Al靶材价格

纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。苏州GZO靶材型号

靶材材质对靶溅射电压的影响 ：

1. 在真空条件不变的条件下,不同材质与种类靶材对磁控靶的正常溅射电压会产生一定的影响。

2. 常用的靶材(如铜Cu、铝Al、钛Ti„)的正常溅射电压一般在400~600V的范围内。

3. 有的难溅射的靶材(如锰Mn、铬Cr等) 的溅射电压比较高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控溅射过程;而有的靶材(如氧化铟锡ITO) 的溅射电压比较低，可以在200多伏电压时实现正常的磁控溅射沉积镀膜。

4. 实际镀膜过程中，由于工作气体压力变化，或阴极与阳极间距偏小(使真空腔体内阻抗特性发生变化)，或真空腔体与磁控靶的机械尺寸不匹配，同时选用了输出特性较软的靶电源等原因，导致磁控靶的溅射电压(即靶电源输出电压)远低于正常溅射示值，则可能会出现靶前存虽然呈现出很亮的光圈，就是不能见到靶材离子相应颜色的泛光，以至不能溅射成膜的状况。 苏州GZO靶材型号

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。