上海单面减薄机厂

时间:2021年06月07日 来源:

全自动减薄机是配有全自动上、下片系统的高精度研削设备,采用晶圆机械手取片,带有自动对中、清洗、干燥功能,可实现盒到盒、干进干出的全自动研削加工。产品特点:1、功能周全:具有自动测厚补偿、多段研削程序、超负载等待等功能,满足各类工艺需求。2、配置丰富:可配置单轴、双轴研削单元。3、全自动系统:全自动上下片,干进干出的全自动研削系统。4、兼容性好:可根据客户需求定制各类工作台,满足各类半导体材料的研削薄化工艺。半自动双轴减薄机配置自动厚度测量和补偿系统,产品粗磨后移动至精磨位置,自动研削至目标值。上海单面减薄机厂

立式减薄机采用高精密丝杆及导轨组件,驱动方式是伺服驱动,可根据不同材质的工件及工艺要求由PLC控制的驱动模式而相应的改变丝杆的转速,也就是砂轮的进刀速度,速度0.001-5mm/min可调,控制进给精度由高分辨率光柵尺检测。采用先进的中国品牌PLC和触摸屏,自动化程度高,实现人机对话,操作简单一目了然。设备可检测磨削扭力、自动调节工件磨削速度,从而防止工件磨削过程中因压力过大产生变形及破损,自动补偿砂轮磨损厚度尺寸,可使直径150晶片厚度减薄到0.08mm厚而不会破碎。杭州双面减薄机厂当减薄机研磨抛光后厚度均匀性较差时,我们要用平面度测量规测量盘面,用小块的砝码重力修正。

通常在集成电路封装前,需要对晶片背面多余的基体材料去除一定的厚度。这一工艺过程称之为晶片背面减薄工艺,对应装备就是晶片减薄机。作用:1.通过减薄/研磨的方式对晶片衬底进行减薄,改善芯片散热效果。2.减薄到一定厚度有利于后期封装工艺。常规工艺:减薄/抛光到80-100um;粗糙度:5-20nm;平整度:±3um。将10吋铁环放置于贴片机移载台上,再将晶圆放置于晶圆吸附座上,启动铁环吸附和晶圆吸附,夹住胶膜并滚压移载台移动至切割位,切割刀下降于铁环上,旋转刀具,完成后上升,移载台移出至放置区前。贴合完成后由操作者将工作物取下。全自动减薄机是配有全自动上、下片系统的高精度研削设备。

多工位减薄机限位装置为螺栓,螺栓与支撑块之间通过螺纹连接,螺栓的末端正对摆齿齿轮座的侧面。毛刷组件包括立柱,立柱上设置有纵向导轨,纵向导轨上安装有升降座,升降座上安装有打磨电机,打磨电机的输出轴连接打磨主轴,打磨主轴底部连接磨盘,升降座与升降机构连接。升降机构包括升降电机、与升降电机输出轴连接的首先滚珠丝杆,首先滚珠丝杆上的螺帽与升降座上的支块固定连接。它还包括基座,基座的上端设置有横向导轨,横向导轨上安装有滑块,立柱固定在滑块上。圆管减薄机售价横向减薄机可使工件加工厚度减薄到0.02mm厚而不会破碎。减薄机研磨垫图形大体的功能是研磨垫之孔隙度可以协助研磨液于研磨过程输送到不同的一些区域。

减薄机砂轮与硅片的接触长度,接触面积,切入角不变,磨削力恒定,加工状态稳定,可以避免硅片出现中凸和塌边现象。现在直径200mm以上的大尺寸硅片背面磨削(backgrinding)大都采用基于硅片白旋转磨削原理的超精密磨削技术。硅片背面磨削的工艺过程:硅片背面磨削一般分为两步:粗磨和精磨.在粗磨阶段,采用粒度46#~500#的金刚石砂轮,轴向进给速度为100~500mm/min,磨削深度较大,般为0.5~11ITf1。目的是迅速去除硅片背面绝大部分的多余材料(加工余量的90%).精磨时,加工余量几微米直至十几微米,采用粒度2000#~4000#的金刚石砂轮,轴向进给速度为0.5~10mm/min。全自动减薄机可配置单轴、双轴研削单元。减薄机由吸盘、砂轮、砂轮主轴及驱动组件、丝杆进给组件等组成。上海单面减薄机厂

可根据蓝宝石减薄机不同的工艺要求由PLC控制系统支持的驱动模式而相应改变转速。上海单面减薄机厂

液晶玻璃减薄机利用直角梯形支座斜面上的夹具夹紧液晶玻璃,将液晶玻璃倾斜放置,以倒U形支架上的两个立板上的出液管道,出液管道在导流板的作用下,分别向液晶玻璃上瀑布式的喷洒刻蚀液以及清洗液,而夹具以及直角梯形支座在首先滑块与滑轨的滑动作用下,在操作台的顶部,以及倒U形支架的底部,自由的切换工位,以适应于向液晶玻璃上喷洒刻蚀液以及清洗液,而且喷洒后的刻蚀废液以及清洗废液可以分类收集于集液槽中,以瀑布流式对液晶玻璃进行刻蚀,废液少,玻璃减薄表面光滑,不用抛光,而且玻璃刻蚀减薄后可以直接进行清洗操作,免去要刻蚀后取下液晶玻璃转移工位的繁琐步骤。上海单面减薄机厂

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