杭州CMP化学机械减薄机设备

在显示屏制作工艺中增加了减薄工艺，通过物理和化学方法使显示器厚度达到轻薄化的目的，目前玻璃化学腐蚀工艺主要使用氢氟酸混合物对液晶玻璃进行减薄，减薄时使用刻蚀液的刻蚀方式有浸泡式、液晶玻璃双面喷洒式以及以及单面的瀑布流式，由于浸泡式、液晶玻璃双面喷洒式都具有刻蚀后表面不光滑的现象，所以越来越多的使用瀑布流式。现有技术对于液晶玻璃减薄，液晶玻璃的刻蚀工艺以及清洗工艺是分开操作，操作过程较为繁琐，喷洒机构满足不了液晶玻璃的瀑布流式刻蚀，为此，我们提出一种集刻蚀工艺以及清洗工艺为一体的适用于瀑布流式玻璃减薄的液晶玻璃减薄机来解决上述问题。伺服电机可带动旋转提篮在一定周期内交替正、反转，明显增强硅片表面的减薄均匀性。杭州CMP化学机械减薄机设备

液晶玻璃减薄机操作台的右端设有电动推杆，电动推杆活塞杆的端部与连接板的右侧面固定连接。利用电动推杆推动连接板，从而推动首先滑块顶部的夹具，对夹具上夹装的液晶玻璃进行工位的转移，转移至左侧立板的底部，对液晶玻璃进行刻蚀液的刻蚀，转移至右侧立板的底部，对液晶玻璃进行刻蚀后的清洗。支杆设有四个，且四个支杆均与直角梯形支座斜面相垂直。夹具包括固定设于支杆上的回字形框以及设于回字形框四个边角内侧的通过弹簧连接的直角夹板。利用直角夹板对液晶玻璃的四个角进行夹紧。立板顶部固定气缸的活塞杆的端部与第二滑块的顶部固定连接。利用气缸推动第二滑块下移，使得喷嘴以及导流板移至液晶玻璃右侧顶部，对于液晶玻璃进行刻蚀以及清洗工艺处理。上海晶元减薄机目前国外生产的减薄机具有高精度、高集成化、自动化、加工硅片大尺寸化、超薄化等特点。

硅片自旋转减薄机的特点：(1)可实现延性域磨削.在加工脆性材料时，,当磨削深度小于某--临界值时,可以实现延性域磨削通过大量试验表明,Si材料的脆性、塑性转换临界值约为0.06m.进给速度厂控制在10~m/min,承片台转速取200r/min,则每转切割深度可达到0.05m.对于自旋转磨削由公式可知,对给定的轴向进给速度,如果，工作台的转速足够高,就可以实现极微小磨削深度。(2)可实现高效磨削.由公式可知，通过同时提高硅片转速和砂轮轴向进给速度,可以在保持与普通磨削同样的磨削深度情况下,达到较高的材料去除率，适用于大余量磨削。

液晶玻璃减薄机，包括操作台，操作台的顶部前后两端对称设有两个横向设置的滑轨，两个滑轨上对称滑动连接的首先滑块之间通过连接板连接，两个首先滑块的顶部通过倒U形支座，倒U形支座顶部的直角梯形支座斜面通过支杆与夹装有液晶玻璃的夹具固定连接，操作台的顶部中间位置设有横向设置的倒U形支架，倒U形支架上左右对称设有两个立板，立板前侧面的滑槽上滑动连接有第二滑块，第二滑块前侧面固定螺接有L形支板，L形支板顶部左侧设有纵向设置的出液管道，出液管道的底部等距离排列设有若干喷嘴，喷嘴的内侧设有与L形支板螺接连接的导流板，操作台上且位于两个滑轨的内侧左右对称设有两个与立板垂直对称设置的集液槽。半自动双轴减薄机两个砂轮轴，无需更换砂轮即可完成粗磨+精磨加工。减薄机的首先驱动组件包括设置在机架上的水平导轨和与水平导轨的滑块固定连接的滑板。

新型的减薄机吸盘装置，包括砂轮主轴及通过螺钉安装在砂轮主轴下方的砂轮，其砂轮主轴上端连接有动力驱动装置；其特征在于：的砂轮主轴通过螺钉与砂轮组成一体式结构的磨削装置，其的磨削装置下方设有磨削工作台，的磨削工作台包括真空装置及通过螺钉安装在真空装置上方的吸盘，由于真空装置的腔体与吸盘形成了一体式的真空吸盘，且吸盘上通过真空吸附有上设有簇状吸附孔的散热工作台，且散热工作台由铝或不锈钢或铝箔制成，其使吸盘的真空吸附通过簇状吸附孔将磨削工件吸附在散热工作台上。横向减薄机磨削阻力小、工件不会破损。半自动双轴减薄机是一款安装两个砂轮轴的高精度研削设备。上海晶元减薄机

在集成电路制造中，半导体硅材料由于其资源丰富，制造成本低，工艺性好，是集成电路重要的基体材料。杭州CMP化学机械减薄机设备

硅片酸洗减薄机通过旋转提篮带动硅片在装有酸液的箱体内旋转，旋转的同时实现减薄，对于原始硅片有效的控制了单片均匀性、重复性和稳定性，提高了极终成品率；旋转提篮的圆柱状围笼对硅片具有盛装并固定位置的作用，防止由于硅片在围笼内晃动导致碎片，安全可靠；由于圆柱状围笼底部沿其长度方向均匀设有多个隔棱，则可实现大量硅片的同时装夹，实现硅片减薄的批量生产，明显提高了工作效率，同时也方便了对硅片的夹装工作，一致性好；伺服电机可带动旋转提篮在一定周期内交替正、反转，明显增强硅片表面的减薄均匀性；减薄机减薄后厚度均匀性需要对砂轮进行修平，校正砂轮环中心固定螺母及球轴承主轴。杭州CMP化学机械减薄机设备