浙江研磨减薄机

晶圆制造工艺中，对晶片的尺寸精度、几何精度、表面洁净度以及表面微晶格结构提出比较高要求，因此在几百道工艺流程中，不可采用较薄的晶片，只能采用一定厚度的晶片在工艺过程中传递、流片，通常在集成电路封装前，需要对晶片背面多余的基体材料去除一定厚度。这一工艺过程称之为晶片背面减薄工艺，对应装备就是晶片减薄机，在减薄过程中，晶圆由于表面中间和边缘的厚度不一致，在去除其中间厚度的时候会因为其强度不同，导致破裂，吸盘无法吸附，直接掉落工作台，变得碎裂，清理麻烦。减薄到一定厚度有利于后期封装工艺。浙江研磨减薄机

随着半导体技术的快速发展，半导体设备也在一代接一代的创新和发展，当今半导体设备的制造和使用涉及50多个学科和60多种化学元素等诸多方面的高技术，具有较强的技术综合性。如：硅、锗晶片(半导体器件)，铌、钽酸锂晶片(声表面波器件)，兰宝石(LED元件)、电子陶瓷(各种传感器)等脆性材料。脆性材料的应用越来越极广，尤其是在高新技术应用领域和前端技术应用领域发挥着不可代替的作用，半导体硅等材料作为集成电路制造的重要基体材料这时候的减薄机就需要发挥他的作用。杭州全自动减薄机半自动双轴减薄机是一款安装两个砂轮轴的高精度研削设备，采用手动装片方式。

通常在集成电路封装前，需要对晶片背面多余的基体材料去除一定的厚度。这一工艺过程称之为晶片背面减薄工艺，对应装备就是晶片减薄机。作用：1.通过减薄/研磨的方式对晶片衬底进行减薄，改善芯片散热效果。2.减薄到一定厚度有利于后期封装工艺。常规工艺:减薄/抛光到80-100um；粗糙度:5-20nm；平整度:±3um。将10吋铁环放置于贴片机移载台上，再将晶圆放置于晶圆吸附座上，启动铁环吸附和晶圆吸附，夹住胶膜并滚压移载台移动至切割位，切割刀下降于铁环上，旋转刀具，完成后上升，移载台移出至放置区前。贴合完成后由操作者将工作物取下。全自动减薄机是配有全自动上、下片系统的高精度研削设备。

卧式减薄机是一款性价比比较高的小型高精度研削设备，采用砂轮轴横卧的安装方式，手动装片，通过砂轮进给控制研削量。设备工作台可根据客户需求进行定制化，应用普遍。产品特点：1、功能周全：具有多段研削程序、超负载等待等功能，满足各类工艺需求。2、操作简便：PC工控机系统，触摸屏操控，除手动上、下片外一键式自动完成减薄加工。3、兼容性好：可根据客户需求定制化各类工作台，满足各类半导体材料的研削薄化工艺。4、性价比高：保证加工成本合理优化。立式蓝宝石减薄机在目前LED蓝宝石生产线上，被公认为目前国内极好的减薄机。

硅片酸洗减薄机通过旋转提篮带动硅片在装有酸液的箱体内旋转，旋转的同时实现减薄，对于原始硅片有效的控制了单片均匀性、重复性和稳定性，提高了极终成品率；旋转提篮的圆柱状围笼对硅片具有盛装并固定位置的作用，防止由于硅片在围笼内晃动导致碎片，安全可靠；由于圆柱状围笼底部沿其长度方向均匀设有多个隔棱，则可实现大量硅片的同时装夹，实现硅片减薄的批量生产，明显提高了工作效率，同时也方便了对硅片的夹装工作，一致性好；伺服电机可带动旋转提篮在一定周期内交替正、反转，明显增强硅片表面的减薄均匀性；当减薄机研磨抛光后厚度均匀性较差时，我们要用平面度测量规测量盘面，用小块的砝码重力修正。伺服电机可带动旋转提篮在一定周期内交替正、反转，明显增强硅片表面的减薄均匀性。上海手动减薄机大全

减薄机是一款操作简单、功能丰富、性价比高的高精度研削设备。浙江研磨减薄机

减薄机砂轮与硅片的接触长度,接触面积,切入角不变,磨削力恒定,加工状态稳定，可以避免硅片出现中凸和塌边现象。现在直径200mm以上的大尺寸硅片背面磨削(backgrinding)大都采用基于硅片白旋转磨削原理的超精密磨削技术。硅片背面磨削的工艺过程：硅片背面磨削一般分为两步:粗磨和精磨.在粗磨阶段,采用粒度46#~500#的金刚石砂轮,轴向进给速度为100~500mm/min,磨削深度较大,般为0.5~11ITf1。目的是迅速去除硅片背面绝大部分的多余材料(加工余量的90%).精磨时,加工余量几微米直至十几微米,采用粒度2000#~4000#的金刚石砂轮,轴向进给速度为0.5~10mm/min。全自动减薄机可配置单轴、双轴研削单元。浙江研磨减薄机