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时间:2025年01月13日 来源:

    动态配气技术就是能连续不断的配制和供给一定浓度的标准气体。用动态配气技术配制标准气体时,首先需要一个能连续不断供给原料气的气源,作为这种配气方法的气源有钢瓶标准气和渗透管等。1.钢瓶气动态配气法在消防实际工作中,所用标准气体的浓度有时需要大,有时需要小。钢瓶标准气虽有不同浓度的规格供应,但购置各种浓度的标准气体,不仅代价太高,而且不一定能及时办到。较好的办法是购置一个浓度较高的标准气瓶,需要低浓度标准气体时,用钢瓶标准气作原料气,压缩空气(由低压空气钢瓶或空压机供给)作稀释气,将它们按图4连接,就可从取气口得到所需浓度的标准气体。740)">所配制的标准气体的浓度,可用改变原料气及稀释气的流量比进行调节,并可按下式计算:740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm);L:钢瓶标准气的浓度(ppm);Qs:钢瓶标准气的流量(Lömin);Qa:压缩空气的流量(Lömin;用此法配气时,在压缩空气的管路中应安装选择性过滤器(净化器),以除去空气中影响配气纯度的杂质。此外配气出口的总流量应略大于用气口的流量,以保证所配气体的浓度与纯度。2.渗透管动态配气法(1)渗透管及渗透率的测定渗透管是动态配气法中的另一种气源,其结构见图5。740)">。重庆一氧化碳标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。成都标准气体厂家现货

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    而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。1.特种气体(Specialtygases):指那些在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可区分为电子气体、标准气、**气、医用气、焊接气、**气等,***用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。2、标准气体(Standardgases):标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值准确的测定标准,它们具有复现、保存和传递量值的基本作用,在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校.d([准测量仪器和测量过程,评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力,确定材料或产品的特性量值。一氧化氮标准气体厂家现货四川医用气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

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    以确保安全2、气体的饱和蒸气压及其他性能要了解各组分的饱和蒸气压及其他性能,考虎是否会产生冷凝作用、标准气体中组分与钢瓶同僻壁材质之间的作用、各组分间的反应等。3、标准气体中组分之间的反应标准气体在制备之前,应考虑标准气体中各组分间是否发生化学反应(即化学稳定性问题),实际上必须搞清楚哪些气体组分不能化学匹配,否则,制备出的标准气体量值不准确,甚至可能会发生**。4、标准气体中组分与钢瓶(容器)材料的反应在制备标准气体之前,还应考虑组分气体与钢瓶及阀门所用材质是否发生化学反应(如氧化、腐蚀、吸附等)问题,以便保证标准气体的稳定性。依据组分气体与包装容器材质的相容性,选用不同材质的钢瓶和瓶阀来储装标准气体。另外,在往气瓶中充入每一个组分之前,配气系统各管路应抽成真空,或者用待充的组分气体反复进行增压—减压来置换清洗阀门和管路,直到符合要求为止。为了避免先稳量的组分气体的损失,在往气瓶中充入第二个组分时,该组分气体的压力应远高于气瓶中的压力。为了防止组分气体的反扩散,在充完每一个组分后,在热平衡的整个期间应关闭气瓶阀门,然后进行称量。

    配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases):半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases):在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases):蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉。福建丙烷标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

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    对不同特种气体的纯度或组成、有害杂质允许的**高含量、产品的包装贮运等都有极其严格的要求,属于高技术,高附加值产品。通常,可以将特种气体分为三类,即高纯或超高纯气体、标准校正气体和具有特定组成的混合气体。气体产品作为现代工业重要的基础原料,应用范围十分***,在冶金、钢铁、石油、化工、机械、电子、玻璃、陶瓷、建材、建筑、食品加工、医*医疗等部门,均使用大量的常用气体或特种气体。因为气体产品的应用覆盖面大,一般将气体的生产和供应与供电、供水一样,作为工业投资环境的基础设施,被视为国民经济“命脉”而列为公用事业行业。随着我国国民经济的快速发展,气体产品应用范围不断扩大,用量不断增加,新产品不断推出,纯度不断提高,市场需求不断扩大,产值增长速度远远超过同期国民经济总值的增长速度,达到年12%的增长率。**气体产品市场年销售额约为400亿元。虽然气体工业总产值在国民经济生产总值中所占的比例不算大。但它对当前飞速发展的微电子、航空航天、生物工程、新型材料、精密冶金、环境科学等高新技术部门有重要影响,是这些部门不可缺少的原材料气或工艺气。正是由于各种新兴工业部门和现代科学技术的需要和推动。成都标准气体厂家现货

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