甘肃激光粒度分析仪

应用实例：测量高纯氧化铝粉。一般来说，含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝，其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料；99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标，CPS纳米粒度分析仪能给您带来确切稳定的测量结果。使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图。山东驰光机电科技有限公司为客户服务，要做到更好。甘肃激光粒度分析仪

升降台式样品池送进定位及环境光遮蔽系统，使光子相关谱探测系统不只体积小，而且具有很强的抗干扰能力。高精度的测试温度控制系统：单独的循环温控槽可在2-95℃范围内任意设定，其控制精度达0.1℃。微量样品池/标准样品池：可以使用3.5ML的标准样品池外，还有适应于稀有贵重样品的0.3ML微样池。环境温度：在5-35℃的环境中，本仪器都能正常使用。纳米粒度仪样品池恒温箱及恒温DI水供应系统：有利于提高测试温度控制精度同时减少等待样品池热平衡的时间，提高仪器的实际测试精度和工作效率。广东激光粒度粒形分析仪哪家好驰光机电科技有限公司坚持“顾客至上，合作共赢”。

研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程：化学过程：研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电是多层次的团体与管理模式。

标定CPS使用的标定颗粒都与美国标准和技术研究院(NIST)的其它标准进行过交叉对比，确保均值、峰宽或者半峰宽等方面的误差在±2%之内，而且颗粒的团聚性也符合要求。可选标定颗粒：直径小于10微米的标定颗粒通常以悬液的形式保存在水中，当然也可以保存在非水基悬液中。大于10微米可以有三种形态，水基悬液，非水基悬液或者干粉状态。每一套标定颗粒都有其粒度分析结果和分析证书。应用实例：PEDOT及其复合材料的粒径测量PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物，PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性。驰光机电是您可信赖的合作伙伴！江西CPS高精度纳米粒度分析仪厂家

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CMP浆料粒度分析的难点在于必须在抛光过程中全浓度条件下快速测定平均颗粒直径和粒度分布，因为稀释可能导致浆料稳定性和粒度的变化(比如进一步的团聚或解聚)，另外在稀释后的浆料中很难检测本来就较少量的团聚体。CPS-24000型纳米粒度分析仪是较新型的纳米粒度分析仪，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量，因此粒径相差小至1%的颗粒都可以明显分辨出来。适用于稀到高浓度的样品粒度测定，对团聚体的存在非常敏感。甘肃激光粒度分析仪

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