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而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。驰光不断从事技术革新,改进生产工艺,提高技术水平。甘肃病毒颗粒分析仪报价

一般离心式分析仪的动态范围为40,但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量,现在可以使用示差沉降法快速测量,而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头:CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声,信噪比通常为50000左右,低噪声使得系统具有很高的灵敏度,可检测窄峰的重量通常小于0.01微克,这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。河南二氧化钛粒度分析仪哪家好山东驰光机电科技有限公司交通便利,地理位置优越。

主要特点如下:1.所需样品量少。每次只需要0.1ml,这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后,可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较,对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒,依旧可以很好地区分测量出来,即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较,由于采用更快的圆盘转速和高速检测器,因此较大缩短了分析所需时间。
据统计,2021年我国PTA将迎来投产前端期,基本都是行业前端企业配套上下游的规划项目,其中恒力石化2021年在广东惠州设计产能达到500万吨,预计2021年我国PTA计划投产PTA产能1650万吨(保底1160万吨),预计2022年我国PTA计划投产PTA产能570万吨。CPS高精度纳米粒度分析仪CPS高精度纳米粒度分析仪有三种型号:DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS纳米粒度分析仪是目前世界上分析速度快、分辨率较高以及灵敏度较好的离心沉降式纳米粒度分析仪,它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之间的颗粒。驰光机电与广大客户携手共创碧水蓝天。

CMP浆料粒度分析的难点在于必须在抛光过程中全浓度条件下快速测定平均颗粒直径和粒度分布,因为稀释可能导致浆料稳定性和粒度的变化(比如进一步的团聚或解聚),另外在稀释后的浆料中很难检测本来就较少量的团聚体。CPS-24000型纳米粒度分析仪是较新型的纳米粒度分析仪,它采用斯托克斯定律分析方法,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量,因此粒径相差小至1%的颗粒都可以明显分辨出来。适用于稀到高浓度的样品粒度测定,对团聚体的存在非常敏感。驰光机电科技有限公司团队从用户需求出发。黑龙江纳米粒度分析仪价格
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测量低密度颗粒:示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒,CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体),现在可以方便地使用CPS进行分析,而且精度很高。速度调节:CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速,而不会对沉降液体产生扰动,转速可以在20倍范围内升高或者降低,这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。甘肃病毒颗粒分析仪报价
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