浙江真空腔体欢迎来电

真空技术应用领域的不断拓展促进了不同学科间的相互融合和交叉学科的诞生。超高真空和高真空技术的进步推动了半导体、航天航空、核电能源等高技术产业的发展，为人类的可持续发展提供了保障。近些年，真空腔体、泵、阀门和密封件在增材制造、核聚变、粒子加速器和集成电路等领域发展的带动下取得新的进展，支撑了重要理论验证和重大工程建设，催生了新的科研成果。本文重点介绍了几种真空技术的典型应用，并对其中的关键技术进行论述。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm 。浙江真空腔体欢迎来电

超高真空技术应用经常，从现有的光学传感器、光刻机、低温恒温器、电子显微镜和XPS光谱仪，到基于冷原子的便携式量子传感器、MEMS真空检测仪器、真空电子束智能增材制造系统等新兴领域。增材制造可大幅减少设备尺寸、重量和开发时间，从而加速基础研究和技术开发。通过激光粉床打印机制造一个利用磁光阱MOT捕获冷原子的小型超高真空腔体，由铝合金AlSi10Mg制造。该系统经历120小时的120℃烘烤后，达到了低于1×10-10mbar的压力范围。装置对被捕获的原子云进行荧光图像，包含多达2×108个铷原子。增材制造的腔体的真空度优于5.0×10-9mbar，与常见的磁光阱真空腔体性能一致。这表明了增材工艺与超高真空腔体制造的适用性。内蒙古真空腔体欢迎来电机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法；

无颗粒阀门是较好的真空应用装备的基础，区别于常规的真空阀门：金属阀体采用高真空钎焊和脱氢工艺；传动密封采用金属波纹管；橡胶与阀板牢固结合后经硫化处理工艺；橡胶承受单向密封压紧力，无摩擦运动。在超高真空系统中，一些部件在运行中可能产生颗粒。使用气体、液体介质（水、酒精或酸等）或膜过滤器来精细过滤区分颗粒。通常，过滤大于0.3μm粒径的颗粒。即使在没有湍流的真空环境中，粒子在表面沉降也需要较长的时间。暴露在环境空气中（无过滤器）的真空装置，在抽真空几个小时后，无湍流流动时的漂浮颗粒（大于0.2μm）需要约80小时才能粘在表面，不再运输。当真空阀门在10mbar打开时，由于振动和湍流作用，颗粒从吸附表面脱落，并在系统中伴随气体输运。为获得无颗粒真空系统，在1mbar压力时，应采取措施以避免明显的振动。

真空密封在超高真空和高真空范围内，被抽气体主要是材料的放气。放气率是各类气体载荷的总和，包括：解吸、扩散、渗透、空洞和裂缝的放气、表面层的分解。微小的放气率对高效抽气和低的基础压力至关重要，其实现方式为：使用解吸率、扩散率和渗透率尽可能小的材料；避免出现裂缝、内部空洞；使用真空兼容性良好的清洁工艺。在室温条件下，经（烘烤）脱气良好的典型材料表面放气率，不锈钢为2×10-13mbar·L·s-1·cm-2，氟橡胶VITON为2×10-11mbar·L·s-1·cm-2。只有能溶解于金属的气体才能发生渗透，惰性气体一般不能渗入金属，氢气和氧气可以渗透大多数金属。真空超导电暖气主要采用对流式与循环式相互作用的工作原理；

分子束外延（MBE）设备的真空室为超高真空环境。超高真空通常用于表面科学设备中：一般来说，空气中的分子会附着在暴露于空气中的固体的表面，并改变固体的表面特性；即使在10-6mba的高真空当中，3秒之内就会有一层分子附着在裸露的固体表面；然而在10-9 mbar的超高真空中，同样的过程需要几个小时才能完成，从而保证表面特性研究的正常开展。分子束外延是一种新的晶体生长技术，其方法是将半导体衬底放置在超高真空腔体中，将需要生长的单晶物质分别放在不同的喷射炉中（也在腔体内）；分别加热到相应温度的各元素喷射出的分子流，能在上述衬底上生长出极薄的单晶体和几种物质交替的超晶格结构。航天航空、集成电路、粒子加速器、高速列车等技术领域的快速发展，对真空腔体的要求提升到一个新的高度。内蒙古真空腔体欢迎来电

特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。浙江真空腔体欢迎来电

氢气是常见气体中对金属渗透率比较高的气体。常温下，氢气对奥氏体不锈钢渗透率较小，对普通碳钢的渗透率随含碳量的增加而增加。此外，当水或湿空气与金属表面反应产生过量的氢时，氢的渗透率会较大的增加。低碳钢不宜做超高真空系统的材料，烘烤时会大量渗氢，空气中加热易锈蚀。对钢和铝表面进行氧化处理可降低氢的渗透率。外表面酸洗、碱浸、腐蚀、电解和抛光等工艺去除氧化层的过程会使渗透率增加几个数量级。任何高温处理都会使金属的晶粒变得粗大以致增加渗透率。有些金属材料对气体的渗透具有选择性，氧气对银的渗透率很大。因此，在超高真空系统中应避免使用银焊料。银作为金属密封材料使用时，通常与其它低渗透率材料复合使用。浙江真空腔体欢迎来电

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