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时间:2022年12月10日 来源:

    **减少了加热器的使用寿命和工艺稳定性。技术实现要素:本实用新型目的是提供一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,结构简单,操作方便,修磨效果好,效率高,解决了以上技术问题。为了实现上述技术目的,达到上述的技术要求,本实用新型所采用的技术方案是:一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,其特征在于:从下至上依次设置有安装支架、旋转装置、加热器支撑圆盘、研磨盘,晶圆加热器设置在加热器支撑圆盘和研磨盘之间;研磨盘包括研磨盘主体,研磨盘主体底部设置有研磨块、调节支撑圆柱,研磨盘主体通过调节螺栓与研磨块相连接固定,调节螺栓的上端设置有数显深度测量指示表;所述的安装支架包括安装支撑柱,安装支撑柱上端设置有安装平板,安装支撑柱下端设置有高度调节块,安装平板上设置有安装主体,安装主体内部设置有台阶孔,装有旋转电机的固定座下部与台阶孔相配合固定,旋转电机的上表面设置有连接圆盘,连接圆盘上端设置有支撑圆盘本体,支撑圆盘本体上端通过螺丝固定有圆环;所述的调节支撑圆柱与圆环相连接。推荐的:所述的高度调节块与安装支撑柱之间设置为螺纹连接。固定到环形或圆形的热环5的加热片不仅可以安定加热片的间距。MSA FACTORYPH200-40-PCC10A加热板总代理

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    本发明涉及锅炉加热技术领域,主要涉及一种电磁感应加热单元结构。背景技术:当前电锅炉通过电加热器对通过供水管流入的冷水进行加热,加热的水用于供暖或作为生活用水使用。根据水的加热方法锅炉可分为供热水锅炉和蓄热水锅炉。该锅炉因不易发生、不易泄漏有害气体、噪音小而普遍使用。近年来,随着油价的上涨,电锅炉因取暖费用低而备受人们关注。目前国内电阻式、电磁式、电极式等各种电加热技术都在锅炉加热领域得到了***运用。国内低压电磁加热技术应用较为普遍,其电磁加热原理是通过电子线路板组成部分产生交变磁场,当用含铁质容器放置在上面时,容器表面即切割交变磁力线而在容器底部金属部分产生交变的电流(即涡流),涡流使容器底部的铁原子高速无规则运动,原子相互碰撞、摩擦而产生热能。从而起到加热物品的效果。因为是铁制容器自身发热,所以热转化率特别高。但该项技术大多数应用在家庭电器上,电压技术参数局限于220~380vac,功率等级*几十千瓦,无法实现大型化从而满足工业蒸汽及城市集中采暖等领域使用。现有电锅炉的加热装置是在一个加热桶内设置线圈式或串联式加热器后注入冷水进行加热,或者层叠多个桶并在每个桶内设置多个加热器。MSA FACTORYPA9005-PCC10A加热板代理商其中,底板上设置有过温保护器。

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    硅片划片方法主要有金刚石砂轮划片、激光划片。激光划片是利用高能激光束聚焦产生的高温使照射局部范围内的硅材料瞬间气化,完成硅片分离,但高温会使切缝周围产生热应力,导致硅片边缘崩裂,且只适合薄晶圆的划片。超薄金刚石砂轮划片,由于划切产生的切削力小,且划切成本低,是应用*****的划片工艺。由于硅片的脆硬特性,划片过程容易产生崩边、微裂纹、分层等缺陷,直接影响硅片的机械性能。同时,由于硅片硬度高、韧性低、导热系数低,划片过程产生的摩擦热难于快速传导出去,易造成刀片中的金刚石颗粒碳化及热破裂,使刀具磨损严重,严重影响划切质量[2]。晶圆制造工艺编辑晶圆表面清洗晶圆表面附着大约2μm的Al2O3和甘油混合液保护层,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗。晶圆初次氧化由热氧化法生成SiO2缓冲层,用来减小后续中Si3N4对晶圆的应力氧化技术:干法氧化Si(固)+O2àSiO2(固)和湿法氧化Si(固)+2H2OàSiO2(固)+2H2。干法氧化通常用来形成,栅极二氧化硅膜,要求薄,界面能级和固定晶圆电荷密度低的薄膜。干法氧化成膜速度慢于湿法。湿法氧化通常用来形成作为器件隔离用的比较厚的二氧化硅膜。当SiO2膜较薄时,膜厚与时间成正比。SiO2膜变厚时。

    本发明的第二个实施例:和***实施例相比之下,第二实施例的特点是在中心点o处增加了封闭的热环5。实际如图5所示,所有加热片中心的自由端与封闭的热环5固定连接;对于热环5的形状可以是椭圆形构造,为了确保电阻阻值的一致,加热片需固定到椭圆形热环5轴对称位置。但是,如果所述热环5的形状是圆形,则热环5只需等间距分布即可。进一步地,所述加热片的数目是两组,包括:***加热片6和第二加热片7;所述***加热片6的***迂回端61和第二加热片7的第二迂回端71彼此纵横组成曲折的留置区8。所述中心点o设有热环5且热环5与两组加热片连通的自由端分别通过***电极91和第二电极92的与电源连接。固定到环形或圆形的热环5的加热片不仅可以安定加热片的间距,同时还可以限制加热板的总体构造,不会让局部变形影响总体;进而化解了疑问一;而总体的环形热环5可以不需要在加热板中心安装电源,可以保证加热板中心的热源温度平稳,同时结合实际推行例一,也可以化解技术疑问二和技术疑问三。晶圆加热盘一般是用于承载、加热晶圆的圆盘,所以也有人称它为晶圆加热器。

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    每组加热片的形状均是拱形包抄着由中心点o向外拓展;相邻两组加热片包抄的拐点彼此错开,每组加热片的自由端分别连结电源的两极。其中,加热片的数目可以是如图4所示为两组,包括:***加热片6和第二加热片7;所述***加热片6的***迂回端61和第二加热片7的第二迂回端71彼此纵横组成曲折的留置区8。本发明的***个实施例:如图4所示,所述每组加热片为单独设立彼此分离,座落中心点o附近的加热片的自由端连结着相同电极,***热弧片60和第二热弧片70分别与***加热片6和第二加热片7连结。在该实行例中,由于多组加热片是单独设立的,因此当加热片受热后,其自身可以具足够大的延展空间,不会影响总体的变形,从而化解了技术疑问一;而中心对称设立的多组加热片可以合理摆设加热片的电极,如图4所示,在中心对称的外边沿可以设立相同的电极,而中心点o的附近连通相同的另一个电极,这种长距离分布,可以防范电源短路,进而化解了技术疑问二。同时,为了确保加热的平稳,中心对称的加热片可以很好的通过错位,让相邻两组加热片之间的留置区8布置的更合理,而这种合理的相距可以避免图3所示的,两组加热片附近的加热片变形等,进而化解了技术疑问三。薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同,厚度通常小于1um。PH250加热板总代理

本实用新型涉及等离子体cvd晶圆加热器的领域。MSA FACTORYPH200-40-PCC10A加热板总代理

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