PA8020-CC-PCC200V加热板说明书
加热板搅拌器加热搅拌器加热板&搅拌器附件出色的性能与智能技术令人印象深刻的高性能、高安全性和操作简便性,使您能够轻松找到符合您实验室要求的加热设备。我们的加热板、搅拌器、加热搅拌器以及相关附件可以完全满足任何实验室需求。广受欢迎的加热板和搅拌器加热板系列加热搅拌器系列RT2高级加热搅拌器实验室加热板和搅拌器专题目录实验室加热板我们均匀加热的加热板能够提供多种获得可重现结果的能力,包括温度稳定性、耐用性以及远程控制访问的能力,以实现安全性和便捷性。搅拌器我们的搅拌器产品组合在大多数应用中可达到2400rpm的转速,且在严苛的细胞培养应用中保证可靠性、安全性和运行性能,将根据您的全部实验室需求为您提供解决方案。加热搅拌器从基本的搅拌设计到适合危险应用的防爆型加热搅拌器,我们的加热搅拌器可以提供精细的控制和可重复性,满足您的各种应用需求。加热板与搅拌器附件我们的搅拌器控制设备和附件能够补充您的加热板和搅拌器,帮助确保您获得正确装备以快速设置好您的搅拌器。可靠的精度和控制系列加热板、搅拌器以及加热搅拌器可实现出色的结果准确性和重现性。在半圆形热片2的自由端是分别接着电源的左电极和右电极。PA8020-CC-PCC200V加热板说明书

***圆形温控晶圆夹盘系统是为晶圆和半导体测试设计的。根据客户的需求有不同尺寸、不同温度段的型号供选。并有台面电接地/电悬空,还有同轴/三同轴接口的细节差异。温控晶圆夹盘的台面温度梯度很低,并且厚度设计的很薄,可以集成进探针台。并且台体设有真空吸气槽,可以利用负压来吸附样品。功能特点:结构紧凑,可集成到晶圆探针台上,设计用于探针测试可编程控温,涵盖不同温度段(具体由型号而定)适用不同尺寸晶圆的真空吸附槽设计可降温至80K可选三同轴接口,以实现pA级测试可从温控器或电脑软件控制,可提供软件SDK基本配置:温控晶圆卡盘、mK2000B温控器可选配件安装支架、液氮制冷系统、外壳循环水冷系统台面选项标准:本色氧化可选:镀金晶圆样品真空吸附多个**的真空吸附通道可定制真空吸附方案晶圆顶杆默认无,可定制底座冷却可通循环水,以维持底座温度在常温附近安装可集成到探针台上,可定制安装支架台面电位电接地(R),电悬空(RF),可选三同轴(RT)BNC接口同轴,电悬空或三同轴传感器/温控方式100Ω铂RTD/PID控制(含LVDC降噪电源)温度分辨率℃温度稳定性±℃(>25℃),±℃(<。 福建PA2025-PCC10A加热板传统加热板留置区分配不合理引致加热不平衡,也易于引致局部变形等疑问。

电热恒温加热板由箱壳、微晶玻璃加热面、陶瓷纤维加热盘及高温镍镉炉丝,控制盒构成。箱壳分两种:一种为全不锈钢,另一种为较好的碳钢冲压而成。表面静电喷塑。温控采用智能型数码显示温控器,控温准确可靠。电热恒温加热板使用方便,散热均匀,坚固耐用。因其电热丝暗藏于壳体内部,不裸露外表,适用于不能直接接触明火的物品加热,保温作用。该产品用于大专院校、石油化工、医药、环保等实验室液体加热用。电热恒温加热板维护保养及注意事项:1.每次使用结束后,关掉电源开关。2.长时间不用需拔掉电源插头,并将加热板放在干燥处并套好塑料防尘罩。3.仪器在维修前必须先清理干净。4.使用说明书在使用过程中要保存好。5.加热板将不对纂改保护装置而造成的财产、人和物产生的损失负责。6.将对不遵守规定和预防措施而造成的财产,人和物造成的损失概不负责。7.将对使用不负责任,以及不按使用说明书说明操作造成的缺陷和功能障碍不负责。8.确保定期的检查维护所有的操作是否正常,包括清洁,定期检查和保证仪器使用时的安全性。
***温度检测模块和第二检测模块均采用型号为pt1000的铂热电阻;***加热模块包括***功率继电器和***加热丝;第二加热模块包括第二功率继电器和第二加热丝;在本实施中,晶圆加热处于温度稳定阶段,并且将控制模块的温度稳定阶段的精度值设置为℃,本领域普通技术人员可根据实际需求设置该阶段的精度值。为了更好地解释本发明,假设***温度检测模块检测到的温度值为℃,第二温度检测模块检测到的温度值为℃,控制模块接收到上述两个温度值后,通过下述公式得到差值:差值=|℃℃|=℃控制模块将上述计算得到的差值与精度值进行比较,在本实施中,差值为℃,大于精度值℃;控制模块通过增大第二功率继电器的输出功率,提高第二加热丝的工作功率,直到***温度检测模块检测到的温度值和第二温度检测模块检测到的温度值之间的差值小于℃;当然本领域普通技术人员也可以通过减小***加热丝的工作功率,使得***温度检测模块检测到的温度值和第二温度检测模块检测到的温度值之间的差值小于℃。通过对热盘进行分区化的温度管理,使得热盘温度均匀,满足了高精度晶圆的加工需求。实施例2:本实施与实施例1的不同点是晶圆加热处于加热升温阶段,在该阶段控制模块的精度值设置为℃。每一个芯片的电性能力和电路机能都被检测到。

控制模块在温度稳定阶段的精度值为℃。其中,控制模块在冷却降温阶段精度值为℃。本发明的有益效果与现有技术相比,本发明使得各个分区之间的温度差一直处在合理范围内,使得热盘温度均匀,满足了高精度晶圆的加工需求。还可以提高升温速率,不用担心热盘温度不均匀而损坏晶圆,**终达到了缩短晶圆加工时间,提高产量的目的。附图说明图1是本发明的实施例1的模块图。具体实施方式下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。实施例1:如图1所示,晶圆加热装置包括控制模块和多分区热盘,本领域普通技术人员可根据实际需求,将热盘分成若干个分区,为了方便说明,本实施例将多分区热盘分为***分区和第二分区。***分区包括***加热模块和***温度检测模块,***温度检测模块用于检测***分区的温度值,并将检测到的***分区温度值发送给控制模块,***加热模块用于加热***分区;第二分区包括第二加热模块和第二温度检测模块,第二温度检测模块用于检测第二分区的温度值,并将检测到的第二分区温度值发送给控制模块,第二加热模块用于加热第二分区;在本实施例中。实施方式所涉及的加热器具备发光管、发热体及反射膜。南京PH250加热板
使得同心圆圆弧上的位置温场分布较差。PA8020-CC-PCC200V加热板说明书
晶圆热处理在涂敷光刻胶之前,将洗净的基片表面涂上附着性增强剂或将基片放在惰性气体中进行热处理。这样处理是为了增加光刻胶与基片间的粘附能力,防止显影时光刻胶图形的脱落以及防止湿法腐蚀时产生侧面腐蚀(sideetching)。光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的甩胶机来进行的。首先、用真空吸引法将基片吸在甩胶机的吸盘上,把具有一定粘度的光刻胶滴在基片的表面,然后以设定的转速和时间甩胶。由于离心力的作用,光刻胶在基片表面均匀地展开,多余的光刻胶被甩掉,获得一定厚度的光刻胶膜,光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和甩胶的转速来控制。所谓光刻胶,是对光、电子束或X线等敏感,具有在显影液中溶解性的性质,同时具有耐腐蚀性的材料。一般说来,正型胶的分辨率高,而负型胶具有感光度以及和下层的粘接性能好等特点。光刻工艺精细图形(分辨率,清晰度),以及与其他层的图形有多高的位置吻合精度(套刻精度)来决定,因此有良好的光刻胶,还要有好的曝光系统。晶圆晶圆的背面研磨工艺晶圆的集成电路制造,为了降低器件热阻、提高工作散热及冷却能力、便于封装,在硅晶圆正面制作完集成电路后,需要进行背面减薄。晶圆的背面研磨工艺。PA8020-CC-PCC200V加热板说明书
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